紫外臭氧清洗机

美国Novascan公司紫外臭氧清洗机（UV-Ozone）美国Novascan公司是全球知名的紫外臭氧清洗机（UV-Ozone）专业生产厂商，产品遍及全球。PSD系列紫外臭氧清洗机PSD系列紫外臭氧清洗机通过操作简便的数字控制器进行控制，让您的工作变的很简单。灯管尺寸自 10x10cm至51x51cm不等。PSD系列紫外臭氧清洗机的特点就是强大的带反射罩的格栅紫外灯，样品台高度可调，可对样品更好定位，使清洗效果好。4x4”或以上尺寸系统带进&出气口双气路设计。PSD系列紫外臭氧清洗机特征:u 数字控制器。u 2-键操作，简便明了。u 全自动15、30、45、60、90、120分钟处理时间。u 任何时间可以手动中断处理过程。u 价格经济，功能强大，畅销型号。u 设置操作简单方便。PSD Pro系列紫外臭氧清洗机PSD Pro系列是科研级的紫外臭氧清洗机，灵活性好，能满足有机分子去除和其他众多领域的应用。可以直接在空气中操作，也可通过两个标准气路中的一个接入氧气，从而增加臭氧产量。PSD Pro系列紫外臭氧清洗机通过可编程数字控制器控制系统工作进程，来确保清洗时间和各项参数的准确。PSD Pro系列紫外臭氧清洗机特征:u 可编程数字控制器，可以进行更多操作控制。u 数字显示计时。u 本系列可升级为可控温样品台。u 可执行“pause”(暂停)和“interrupt”(终止)指令。u 非常强大的系统，可以进行强化过程控制。u 内置存储器用于记录之前参数设置。—— 一个强大的系统，提供了增强的进程控制！ PSDP-UVT系列加热紫外臭氧清洗机PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗机增加了一个可控温的加热样品台，通过PID数字控制器准确反控加热样品台温度，控温范围可达150℃ (200℃可选配)。将PSDP-UV系列的清洗能力提升到了新的水平，能分解有机分子物质。PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗机特征:u PSDP-UVT和PSDP相同，但标配可控温的加热样品台。u 高利用率和高灵活性。u 适应多用户环境。u PSD,PSDP和 PSDP-UVT可选配众多高效配件，以匹配用户多数应用需求。美国Novascan公司紫外臭氧清洗机（UVO）共同特点：u 样品高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，位置可锁定。u 标准样品台尺寸：UV格栅灯大小或更大。u UV格栅灯：低压汞格栅灯，灯管寿命大约为5000小时。u UV反射罩：UV反射罩一般比UV格栅灯大2.54cm。比如规格为10.16×10.16cm格栅灯反射罩尺寸是12.7×12.7cm。u 样品放置：上置式，360度自由放置样品。u 安全装置：当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯。u 双标准气路：符合国际标准的进出气接口，可根据用户需要订制，可接入氧气，增加臭氧产量。u 控温范围：150℃ (200℃可选配)。u 臭氧中和器：中和器和泵用于臭氧排除。（PSD和PSDP选项）可在直接在实验室桌面上使用紫外臭氧清洗机，不需要通风橱，操作安全方便，样品处理过后不需等待，可以直接取出，节省时间。u 真空反应腔：选项客户化定制，铝或石英材料。美国Novascan公司紫外臭氧清洗机（UV-Ozone）PSD 和PSDP 系列型号及尺寸： 型号UV灯尺寸cm样品台高度cm主机重量kg外型尺寸（LxWxH）cmPSD-UV4/PSDP-UV4/PSDP-UV4T10.2x10.210.218.630.5x39.4x26.7PSD-UV48/PSDP-UV48/PSDP-UV48T10.2x20.310.218.630.5x39.4x26.7PSD-UV8/PSDP-UV8/PSDP-UV8T20.3x20.310.218.630.5x39.4x26.7PSD-UV10/PSDP-UV10/PSDP-UV10T25.4x25.410.225.438.1x43.2x26.7PSD-UV12/PSDP-UV12/PSDP-UV12T30.5x30.510.225.438.1x43.2x26.7PSD-UV816/PSDP-UV816/PSDP-UV816T20.3x40.610.225.438.1x43.2x26.7PSD-UV1016/PSDP-UV1016/PSDP-UV1016T25.4x40.610.225.438.1x43.2x26.7u 2-键操作，简便明了。u 全自动15、30、45、60、90、120分钟处理时间。u 任何时间可以手动中断处理过程。u 价格经济，功能强大，畅销型号。u 设置操作简单方便。PSD Pro系列紫外臭氧清洗机PSD Pro系列是科研级的紫外臭氧清洗机，具有高灵活性，能满足有机分子去除和其他众多领域的应用。可以直接在空气中操作，也可通过两个标准气路中的一个接入氧气，从而增加臭氧产量。PSD Pro系列紫外臭氧清洗机通过可编程数字控制器控制系统工作进程，来确保清洗时间和各项参数的准确性。PSD Pro系列紫外臭氧清洗机特征:u 可编程数字控制器，可以进行更多操作控制。u 数字显示倒计。u 本系列可升级为可控温样品台。u 可执行“pause”(暂停)和“interrupt”(终止)指令。u 非常强大的系统，可以进行强化过程控制。u 内置存储器用于记录之前参数设置。—— 一个强大的系统，提供了增强的进程控制！ PSDP-UVT系列加热紫外臭氧清洗机PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗机增加了一个可控温的加热样品台，通过PID数字控制器准确反控加热样品台温度，控温范围可达150℃ (200℃可选配)。将PSDP-UV系列的清洗能力提升到了新的水平，能分解有机分子物质。PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗机特征:u PSDP-UVT和PSDP相同，但标配可控温的加热样品台。u 高利用率和高灵活性。u 适应多用户环境。u PSD,PSDP和 PSDP-UVT可选配众多高效配件，以匹配用户多数应用需求。美国Novascan公司紫外臭氧清洗机（UVO）共同特点：u 样品高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，位置可锁定。u 标准样品台尺寸：UV格栅灯大小或更大。u UV格栅灯：低压汞格栅灯，灯管寿命大约为5000小时。u UV反射罩：UV反射罩一般比UV格栅灯大2.54cm。比如规格为10.16×10.16cm格栅灯反射罩尺寸是12.7×12.7cm。u 样品放置：上置式，360度自由放置样品。u 安全装置：当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯。u 双标准气路：符合国际标准的进出气接口，可根据用户需要订制，可接入氧气，增加臭氧产量。u 控温范围：150℃ (200℃可选配)。u 臭氧中和器：中和器和泵用于臭氧排除。（PSD和PSDP选项）可在直接在实验室桌面上使用紫外臭氧清洗机，不需要通风橱，操作安全方便，样品处理过后不需等待，可以直接取出，节省时间。u 真空反应腔：选项客户化定制，铝或石英材料。 美国Novascan公司紫外臭氧清洗机（UV-Ozone）PSD 和PSDP 系列型号及尺寸： PSD-UV1216/PSDP-UV1216/PSDP-UV1216T30.5x40.610.225.466.0x71.1x26.7PSD-UV1616/PSDP-UV1616/PSDP-UV1616T40.6x40.610.225.466.0x71.1x26.7PSD-UV1020/PSDP-UV1020/PSDP-UV1020T25.4x50.810.243.166.0x71.1x26.7PSD-UV2020/PSDP-UV2020/PSDP-UV2020T50.8x50.810.243.166.0x71.1x26.7

PSD系列紫外臭氧清洗机 美国Novascan公司是全球知名的紫外臭氧清洗机（UV-Ozone）专业生产厂商，产品遍及全球。PSD系列紫外臭氧清洗机通过操作简便的数字控制器进行控制，让您的工作变的很简单。灯管尺寸自 10x10cm至51x51cm不等。PSD系列紫外臭氧清洗机zui大的特点就是强大的带反射罩的格栅紫外灯，样品台高度可调，可对样品更好定位，使清洗效果达到zui佳。4x4”或以上尺寸系统带进&出气口双气路设计。PSD系列紫外臭氧清洗机特征:v 数字控制器；v 2-键操作，简便明了；v 全自动15、30、45、60、90、120分钟处理时间；v 任何时间可以手动中断处理过程；v 价格经济，功能强大，畅销型号；v 设置操作简单方便。PSD Pro系列紫外臭氧清洗机PSD Pro系列是科研级的紫外臭氧清洗机，具有zui佳的灵活性，能满足有机分子去除和其他众多领域的应用。可以直接在空气中操作，也可通过两个标准气路中的一个接入氧气，从而增加臭氧产量。PSD Pro系列紫外臭氧清洗机通过可编程数字控制器控制系统工作进程，来确保清洗时间和各项参数的准确性。PSD Pro系列紫外臭氧清洗机特征:v 可编程数字控制器，可以进行更多操作控制；v 数字显示计时；v 本系列可升级为可控温样品台；v 可执行“pause”(暂停)和“interrupt”(终止)指令；v 非常强大的系统，可以进行强化过程控制；v 内置存储器用于记录之前参数设置。—— 一个强大的系统，提供了增强的进程控制！ PSDP-UVT系列加热紫外臭氧清洗机PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗机增加了一个可控温的加热样品台，通过PID数字控制器反控加热样品台温度，控温范围可达150℃ (200℃可选配)。将PSDP-UV系列的清洗能力提升到了新的水平，能zui大程度的分解有机分子物质。PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗机特征:v PSDP-UVT和PSDP相同，但标配可控温的加热样品台；v 高利用率和高灵活性；v 适应多用户环境；v PSD,PSDP和 PSDP-UVT可选配众多高效配件，以匹配用户多数应用需求。美国Novascan公司紫外臭氧清洗机（UVO）共同特点：v 样品高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，位置可锁定。v 标准样品台尺寸：UV格栅灯大小或更大。v UV格栅灯：低压汞格栅灯，灯管寿命大约为5000小时。v UV反射罩：UV反射罩一般比UV格栅灯大2.54cm。比如规格为10.16×10.16cm格栅灯反射罩尺寸是12.7×12.7cm。v 样品放置：上置式，360度自由放置样品。v 安全装置：当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯。v 双标准气路：符合国际标准的进出气接口，可根据用户需要订制，可接入氧气，增加臭氧产量。v 控温范围：150℃ (200℃可选配)。v 臭氧中和器：中和器和泵用于臭氧排除。（PSD和PSDP选项）可在直接在实验室桌面上使用紫外臭氧清洗机，不需要通风橱，操作安全方便，样品处理过后不需等待，可以直接取出，节省时间。v 真空反应腔：选项客户化定制，铝或石英材料。 美国Novascan公司紫外臭氧清洗机（UV-Ozone）PSD 和PSDP 系列型号及尺寸： 型号UV灯尺寸cm样品台高度cm主机重量kg外型尺寸（LxWxH）cmPSD-UV4/PSDP-UV4/PSDP-UV4T10.2x10.210.218.630.5x39.4x26.7PSD-UV48/PSDP-UV48/PSDP-UV48T10.2x20.310.218.630.5x39.4x26.7PSD-UV8/PSDP-UV8/PSDP-UV8T20.3x20.310.218.630.5x39.4x26.7PSD-UV10/PSDP-UV10/PSDP-UV10T25.4x25.410.225.438.1x43.2x26.7PSD-UV12/PSDP-UV12/PSDP-UV12T30.5x30.510.225.438.1x43.2x26.7PSD-UV816/PSDP-UV816/PSDP-UV816T20.3x40.610.225.438.1x43.2x26.7PSD-UV1016/PSDP-UV1016/PSDP-UV1016T25.4x40.610.225.438.1x43.2x26.7PSD-UV1216/PSDP-UV1216/PSDP-UV1216T30.5x40.610.225.466.0x71.1x26.7PSD-UV1616/PSDP-UV1616/PSDP-UV1616T40.6x40.610.225.466.0x71.1x26.7PSD-UV1020/PSDP-UV1020/PSDP-UV1020T25.4x50.810.243.166.0x71.1x26.7PSD-UV2020/PSDP-UV2020/PSDP-UV2020T50.8x50.810.243.166.0x71.1x26.7

美国JELIGHT紫外臭氧清洗机　美国JELIGHT公司成立于一九七八年，一直致力于为科研，工业生产领域涉及和制造紫外相关产品。主要产品包括：紫外灯，臭氧发生器，芯片记忆消除器(Wafer and EPROM Erasers-CHIPnERASER)，紫外臭氧清洗机。　最新型号!!　紫外臭氧清洗机 Model 18 Model 42 Series UV SUPRASIL灯 Ozone Killer Blower应用实例：镀膜或涂胶前彻底清洗表面有机污染去除光刻胶、基片蓝膜去除清洁焊剂，混合电路以及平板LCD显示器刻蚀Teflon,Viton和其它增强塑料表面的镀膜的粘附性增强GaAs和Si氧化物钝化表面Si片表面生长氧化层 多用于半导体生产中晶元及光刻板清洗，光学镜头、太阳能面板清洗，氧化物生长表面改性。 臭氧发生器型号：2000、1000和600可产生臭氧浓度超过6000ppm。进出的端口为直径1/4"。可调试流量计，最高流量5L/min。使用者可依照臭氧浓度的需求调整。机器内提供冷却系统，增强紫外线灯的寿命。　CHIPnERASER工作光强高于市场其它产品25%数字计时器及操作完成自动报警，自动关闭功能光照均匀，确保快速完全擦除纯金属机柜快速放样/取样托盘安全互锁设计，避免UV误曝光。 臭氧浓度检测器(Ozone monitor)型号：Model 465L微处理器控制，监测下限3 PPb自检测报警功能，标配温度及气压补偿，快速反应可选择1，3和6路气体监控可通过程序设置尝试报警。 紫外线擦除器(EPROM Erasers)托盘设计，便于快速取放芯片数字计时器，自动关闭并报警全金属主机设计，坚固耐用可堆叠放置，节省空间全安互锁功能。

紫外臭氧清洗机 HWUVO-3/HWUVO-6/HWUVO-9型仪器简介紫外臭氧清洗机是一款用于无机基材（比如：石英、硅片、金、镍、铝、砷化镓、氧化铝等）表面有机污染物去除的表面清洗设备。低压紫外汞灯能够同时发射波长254nm和185nm的紫外光，在这两种短波紫外光的照射下，活化有机物分子与活性氧原子发生氧化反应，生成挥发性气体逸出样品表面，从而彻底清除粘附在样品表面上的有机污染物。应用领域1、PCBA（印制电路板）生产中进行光清洗后，可以提高导线焊接时熔焊的接触面积，增加连接强度，进而提高印制电路板的质量；2、LCD、OLED生产中进行光清洗后，可以提高基体表面润湿性，进而增强基体表面的粘合力；3、集成电路领域，光清洗可以实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤；4、可用于提高半导体粘合力、清洗彩色滤光片表面有机污染物、提高光学玻璃镀 膜质量等场景；5、对清除石蜡、松香、油脂、人体体油、残余光刻胶、环氧树脂、焊剂；以及带有氧化膜的金属表面处理，去除导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物，光清洗都是十分有效的方法。功能特点1.1采用5寸彩色触摸屏控制，可自主设定运行时间、加热温度、气路流量等流程参数；1.2加热、升降一体式样品台，升降行程50mm, 便于样品与UV灯间距的调整；1.3样品台恒温控制，智能PID温度调节，设置范围RT~200℃, 控温精度±1℃；1.4流量、加热、UV灯分别自动单独控制启闭，处理过程中可手动中断；1.5组合式处理方式，可自由选择：是否启用样品台加热功能、打开供氧气路；1.6自动储存清洗参数设置，并生成历史记录，避免实验数据遗忘；1.7安全可靠，设备运行过程中，清洗仓仓盖打开时自动关闭UV灯，并弹窗提示，避免紫外线伤害；1.8标配流量数字化显示(可接入氧气或臭氧),可调节气路供气流量；1.9上置式样品台及上翻式开盖设计，取放样品方便，操作简单快捷；1.10波长254nm和185nm双波UV灯源，灯管寿命约为8000小时，配备UV反光罩使样品照射均匀化；1.11一键化操作，减少工作强度。技术参数仪器型号UVO-3UVO-6UVO-9外观图片栅格灯尺寸/mm220*270130*130230*230样品台尺寸/mm220*270150*150220*270样品台升降行程/mm505050加热温度范围/℃室温-200℃流量范围(ml/min)选配0-10000-1000外形尺寸(L*W*H)/mm450*390*270445*300*245500*360*250主机重量/kg1011.515UV光波长185nm、254nmUV灯管双波长灯管一体式低压汞蒸气栅格灯灯管寿命约5000小时约8000小时机身材质304不锈钢、塑料304不锈钢和氧化铝安全防护功能--仓盖打开时，灯管自动熄灭

一、产品简介紫外臭氧清洗机（UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。CIF紫外臭氧清洗机采用长寿命UV石英低压汞蒸汽格栅灯，样品台高度可调并可选加热控温，以便达到最佳清洗效果。二、产品特点1. UVO基础型采用可编程数字控制器，设置操作简单方便，四键操作控制。UVOP和UVOT系列采用5寸彩色触摸屏设置显示计时时间及加热温度。2. 自动补偿功能，自动恒定光强光密度，不会因为低压汞灯老化光强衰减影响清洗效果。3. 数字倒计时显示清洗时间，1-999分钟之间可自行设置清洗时间。4. 任何时间可以手动中断处理过程。5. 自动记录之前清洗参数设置。6. 样品台可控温（可选），控温范围RT-220℃，控温精度0.1℃。7. 顶置下压式铰链开关盖方式，操作简单方便。8. 上置式样品台设计，360度自由放置样品，操作方便。9. 样品台高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，并可锁定。10. UV石英低压汞蒸汽格栅灯，灯管寿命大约为8000小时。11. 高强度UV灯源，波长185nm和254nm。12. 可累计计时UV格栅灯使用时长，更换提示。13. UV反射罩（长X宽）比UV格栅灯大2.5cm，比如规格为13x13cm格栅灯反射罩尺寸大于15×15cm。14. 双重安全保护，带有安全锁，当清洗腔打开时，系统自动关掉UV灯，并有灯光通断提示。15. 带进&出气口双气路设计。16. 可接入氧气或者臭氧，增加臭氧产量。17. UVO5可选外置臭氧中和器，UVO9、UVO12系列可选外置或者内置臭氧中和器，用于臭氧清除。18. 可根据客户要求定制铝或石英材料真空反应腔。三、 技术参数产品型号UV灯尺寸cm样品台高度cm主机重量kg外型尺寸（LxWxH）cmUVO5/UVO5P/UVO5T13x135cm内可调631x26x20UVO9/UVO9P/UVO9T23x235cm内可调12.560x50x20UVO13/UVO13P/UVO13T33x335cm内可调18.570x60x20注：UVO型基础型样品台不带加热功能，样品台高度可调；UVOP可选配样品台加热功能，样品台高度可调；UVOT标配样品台加热功能，样品台高度可调。

PSD系列紫外臭氧清洗机 美国Novascan公司是全球知名的紫外臭氧清洗机（UV-Ozone）专业生产厂商，产品遍及全球。 PSD系列紫外臭氧清洗机通过操作简便的数字控制器进行控制，让您的工作变的很简单。灯管尺寸自 10x10cm至51x51cm不等。PSD系列紫外臭氧清洗机特点就是强大的带反射罩的格栅紫外灯，样品台高度可调，可对样品更好定位，使清洗效果达到更佳。4x4”或以上尺寸系统带进&出气口双气路设计。PSD系列紫外臭氧清洗机特征:v 数字控制器；v 2-键操作，简便明了；v 全自动15、30、45、60、90、120分钟处理时间；v 任何时间可以手动中断处理过程；v 价格经济，功能强大，畅销型号；v 设置操作简单方便。PSD Pro系列紫外臭氧清洗机PSD Pro系列是科研级的紫外臭氧清洗机，具有更佳的灵活性，能满足有机分子去除和其他众多领域的应用。可以直接在空气中操作，也可通过两个标准气路中的一个接入氧气，从而增加臭氧产量。PSD Pro系列紫外臭氧清洗机通过可编程数字控制器控制系统工作进程，来确保清洗时间和各项参数的准确性。PSD Pro系列紫外臭氧清洗机特征:v 可编程数字控制器，可以进行更多操作控制；v 数字显示daojishi；v 本系列可升级为可控温样品台；v 可执行“pause”(暂停)和“interrupt”(终止)指令；v 非常强大的系统，可以进行强化过程控制；v 内置存储器用于记录之前参数设置。—— 一个强大的系统，提供了增强的进程控制！ PSDP-UVT系列加热紫外臭氧清洗机PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗机增加了一个可控温的加热样品台，通过PID数字控制器反控加热样品台温度，控温范围可达150℃ (200℃可选配)。将PSDP-UV系列的清洗能力提升到了新的水平，能较大程度的分解有机分子物质。PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗机特征:v PSDP-UVT和PSDP相同，但标配可控温的加热样品台；v 高利用率和高灵活性；v 适应多用户环境；v PSD,PSDP和 PSDP-UVT可选配众多高效配件，以匹配用户多数应用需求。美国Novascan公司紫外臭氧清洗机（UVO）共同特点：v 样品高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，位置可锁定。v 标准样品台尺寸：UV格栅灯大小或更大。v UV格栅灯：低压汞格栅灯，灯管寿命大约为5000小时。v UV反射罩：UV反射罩一般比UV格栅灯大2.54cm。比如规格为10.16×10.16cm格栅灯反射罩尺寸是12.7×12.7cm。v 样品放置：上置式，360度自由放置样品。v 安全装置：当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯。v 双标准气路：符合国际标准的进出气接口，可根据用户需要订制，可接入氧气，增加臭氧产量。v 控温范围：150℃ (200℃可选配)。v 臭氧中和器：中和器和泵用于臭氧排除。（PSD和PSDP选项）可在直接在实验室桌面上使用紫外臭氧清洗机，不需要通风橱，操作安全方便，样品处理过后不需等待，可以直接取出，节省时间。v 真空反应腔：选项客户化定制，铝或石英材料。 美国Novascan公司紫外臭氧清洗机（UV-Ozone）PSD 和PSDP 系列型号及尺寸： 型号UV灯尺寸cm样品台高度cm主机重量kg外型尺寸（LxWxH）cmPSD-UV4/PSDP-UV4/PSDP-UV4T10.2x10.210.218.630.5x39.4x26.7PSD-UV48/PSDP-UV48/PSDP-UV48T10.2x20.310.218.630.5x39.4x26.7PSD-UV8/PSDP-UV8/PSDP-UV8T20.3x20.310.218.630.5x39.4x26.7PSD-UV10/PSDP-UV10/PSDP-UV10T25.4x25.410.225.438.1x43.2x26.7PSD-UV12/PSDP-UV12/PSDP-UV12T30.5x30.510.225.438.1x43.2x26.7PSD-UV816/PSDP-UV816/PSDP-UV816T20.3x40.610.225.438.1x43.2x26.7PSD-UV1016/PSDP-UV1016/PSDP-UV1016T25.4x40.610.225.438.1x43.2x26.7PSD-UV1216/PSDP-UV1216/PSDP-UV1216T30.5x40.610.225.466.0x71.1x26.7PSD-UV1616/PSDP-UV1616/PSDP-UV1616T40.6x40.610.225.466.0x71.1x26.7PSD-UV1020/PSDP-UV1020/PSDP-UV1020T25.4x50.810.243.166.0x71.1x26.7PSD-UV2020/PSDP-UV2020/PSDP-UV2020T50.8x50.810.243.166.0x71.1x26.7

Ossila紫外臭氧清洗机产品介绍什么是紫外臭氧清洗?紫外臭氧清洗是一种光敏氧化处理过程。在处理过程中，有机分子在吸收短波长紫外辐射后，与臭氧分子发生化学反应，使有机分子从样品表面分离下来。紫外臭氧清洗是一种卓越的清洁技术，可清洁光敏表面、树脂表面，以及洗涤溶剂、助焊剂、油类中的残留物，可以对你的样品进行表面杀菌处理而不影响表面属性。紫外臭氧清洗与其它清洗技术(如氧等离子清洗)不同，不会导致样品表面损伤。紫外臭氧清洗机利用高强度紫外光源，在185nm和 254nm两个波长照射目标表面进行处理。样品仓内的分子氧(O2)在200nm以下波长的紫外线照射下进行分解，产生两个氧自由基(O• )。每个氧自由基随后与更多的氧分子发生反应，生成臭氧(O3)分子(图1)。没有被残余氧吸收的大于200nm波长的紫外线被基片表面上的有机化学键大量吸收，导致激发状态或有机自由基的产生。这些活性有机物种与不稳定的臭氧分子接触时会产生易挥发性物种，如CO2，H2O，N2及短链有机化合物。这种挥发性物质极易从样品表面挥发释放，达到表面清洁的效果。 英国Ossila紫外臭氧清洗机可以去除样品表面污染，数分钟内产生超净表面。它利用高能紫外光源产生臭氧，臭氧将样品表面的污染物分解为挥发性化合物。挥发性化合物从样品表面蒸发，不留痕迹。这种清洁方法可以产生接近原子级的清洁表面，而不会对样品表面产生损坏。英国Ossila紫外臭氧清洗机的托盘尺寸为100mmx100mm，可将样品定位于紫外光源下。您只需将样品放到托盘上，关上仓门，设置好时间，按开始键即可。英国Ossila紫外臭氧清洗机性价比高，厂家提供2年免费质保。主要应用目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。表面UV光清洗：利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE，对有机物质所起的光敏氧化分解作用，以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物），获得超洁净的表面。表面UV光改质：利用紫外光照射有机表面，在将有机物分解的同时，254nm波长的紫外光被物体表面吸收后，将表层的化学结构切断，光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合，并将之变换成具有高度亲水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），从而提高表面的浸润性。紫外臭氧清洗机的应用领域包括: 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。 微电子产品的表面清洗：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与粘结垫的清洗。在胶粘接或是印刷之前，对高分子聚合制品的表面改性：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜,塑料薄膜,树脂成型空气袋,IC包装,注射針接合部份的表面性,介入导管的表面改型等。科研过程的表面清洗及处理：半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等。紫外臭氧清洗机适用的样品类型包括: 石英 硅 二氧化硅 氮化硅 金 镍 铝 砷化镓 氧化铝 玻璃 不锈钢功能特征 成本低； 120x120mm样品台； 处理样品高14mm； 抽屉式样品台，简单方便； 样品台自动安全开关,打开UV自动关闭，防止对人身伤害； UVO显示器 LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”； 60分钟定时器； 高强度UV灯源； 可控温的样品台； 样品清洗无需溶剂； 超净表面左: 紫外线臭氧清洗前 右: 紫外臭氧清洗10分钟后(右)。技术参数UV灯类型人造石英紫外格栅灯UV灯主要波长185 nm 和 254 nmUV灯规格100 mm x 100 mmUV灯电流30 mA (恒定)254 nm 输出强度100厘米距离的光强度为20 μW/cm2UV 灯使用寿命T80 (2000小时) 8-10年标准日常使用时间电源电源220-240 VAC 保险丝：1A选配的AC/AC 变压器110 V / 230V运行时间59 分钟59秒安全特征安全互锁装置, 高温报警, 热熔断路托盘尺寸100 mm x 100 mm样品尺寸100 mm x 100 mm外形尺寸宽 204 mm高 227 mm长 300 mm

紫外臭氧清洗工作原理：清洗设备的核心是低压石英汞灯，产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和等离子氧气产生，有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解。激发的有机污染物可以和等离子氧原子反应形成气体，比如CO2,H2O等。整个过程在室温**发生，并且只需要1到几分钟完成。*注1：白色氧化铝暴露在UV能量下会变黄。这种现象是由于基材吸收UV能量， 而不是一种涂层。这种氧化铝在加热情况下会转化为他原来的颜色。**注2：清洗元件温度的上升取决清洗过程的时间长度。在大多数应用，元件温度可以视为室温。UV紫外臭氧清洗的特点: 超洁净表面 室温操作 快速－大多数应用10分钟内可完成 运行简单 超低采购成本和zui小运行成本 10×10 英寸（25.4×25.4cm） 220伏T10X10紫外臭氧清洗机是一款台式的紫外臭氧清洗设备。通过紫外线（185nm和254nm）和臭氧清洗基材表面，能够简单，经济，快速获得超洁净表面。能去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝*等）上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时，紫外清洗非常理想。获得超洁净的表面，只需要在传统清洗后，再用紫外臭氧清洗几分钟。 T10X10紫外臭氧清洗机的属性：UVOC紫外清洗机Model型号 T10x10/OES光照尺寸 10" x 10"（25.4×25.4cm）有效面积:100 sq. in.宽:14"深:23 3/4"高:14.5"托盘推出深度:33"滑行托盘: 1结构:箱体和托盘为不锈钢结构功耗:110Vac / 60Hz 5A Max or 230Vac / 50Hz 2.5 amp Max臭氧排气系统:有臭氧排气系统排气口尺寸:3" 直径排气需要:100cfm定时器: 在开始或结束时峰鸣"ON"指示器:有有

紫外臭氧清洗机（UVO）英国Ossila公司提供的紫外臭氧清洗机（UVO），是一种简单，经济，快速的材料表面清洗设备，只需把样品放置到样品盘上，关上舱门，设置时间，并按运行，就可以了，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时，紫外清洗非常理想。要获得超洁净的表面，只需要在传统清洗后，再用紫外臭氧清洗几分钟就可获得！目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。u 表面UV光清洗：利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE，对有机物质所起的光敏氧化分解作用，以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物），获得超洁净的表面。u 表面UV光改质：利用紫外光照射有机表面，在将有机物分解的同时，254nm波长的紫外光被物体表面吸收后，将表层的化学结构切断，光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合，并将之变换成具有高度亲水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），从而提高表面的浸润性。 主要应用u 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。u 微电子产品的表面清洗：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。u 精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与粘结垫的清洗。u 在胶粘接或是印刷之前，对高分子聚合制品的表面改性：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜,塑料薄膜,树脂成型空气袋,IC包装,注射針接合部份的表面性,介入导管的表面改型等。u 科研过程的表面清洗及处理：半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等。 产品特点u 成本低。u 120x120mm样品台。u 最处理样品高14mm。u 抽屉式样品台，简单方便。 u 样品台自动安全开关,打开UV自动关闭，防止对人身伤害。 UVO显示器u LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”。u 60分钟定时器。u 高强度UV灯源。u 可控温的样品台。u 样品清洗无需溶剂。u 超净表面。 UVO样品托盘二、技术参数紫外灯类型低压石英水银蒸汽灯紫外线灯的主要波长185nm和254nmUV灯管尺寸100x100mmUV灯电源4000V,30mAUV灯寿命每天使用可用8-10年适用电压230V,0.6A,50Hz//opt.(110V,1.2A,60Hz)运行时间59分59秒安全安全联锁，高温报警，高温断电。托盘尺寸120x120mm样品尺寸100x100mm总尺寸长204mm、高227mm、宽300mm在紫外线臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基质上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分钟后(右)。

【仪器简介】 紫外臭氧清洗机是一款用于无机基材表面有机污染物去除的表面清洗设备。低压紫外汞灯能够同时发射波长254nm和185nm的紫外光，在这两种短波紫外光的照射下，活化有机物分子与活性氧原子发生氧化反应，生成挥发性气体逸出样品表面，从而彻底清除粘附在样品表面上的有机污染物。【应用范围】在印制电路板生产中进行光清洗后，可以提高导线焊接时熔焊的接触面积，增加连接强度， 进而提高印制电路板的质量；LCD、OLED生产中进行光清洗后，可以提高基体表面润湿性，进而增强基体表面的粘合力；集成电路领域，光清洗可以实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤；光清洗还可以应用于提高半导体粘合力、清洗彩色滤光片表面有机污染物、提高光学玻璃镀 膜质量等场景； 此外，对清除石蜡、松香、油脂、人体体油、残余光刻胶、环氧树脂、焊剂；以及带有氧化 膜的金属表面处理，去除导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物，光清洗都是十分有效的方法。【仪器特点】采用5寸彩色触摸屏控制，可自主设定运行时间、加热温度、气路流量等流程参数加热、升降一体式样品台，升降行程50mm，便于样品与UV灯间距的调整样品台恒温控制，智能PID温度调节，设置范围RT~200℃，控温精度±1℃流量、加热、UV灯分别自动单独控制启闭，处理过程中可手动中断处理方式组合多样。可选择处理过程：是否启用样品台加热功能、打开供氧气路自动储存清洗参数设置，并生成历史记录，避免实验数据遗忘安全互锁。设备运行过程中，清洗腔上盖打开，设备自动关闭UV灯，并弹窗提示，避免紫外线对人伤害。标配流量数字化显示（可接入氧气或臭氧），可调节气路供气流量上置式样品台及上翻式开盖设计，取放样品方便，操作简单快捷波长254nm和185nm双波UV灯源，灯管寿命约为8000小时，配备UV反光罩使样品照射均匀化。一键化操作，减少工作强度【设备参数】 UV230样品台尺寸/mm220*270UV光管尺寸/mm230*230样品台升级行程/mm50流量范围（ml/min）0~1000外形尺寸（L*W*H）/mm445*300*245主机重量/kg11.5

【仪器简介】 紫外臭氧清洗机是一款用于无机基材表面有机污染物去除的表面清洗设备。低压紫外汞灯能够同时发射波长254nm和185nm的紫外光，在这两种短波紫外光的照射下，活化有机物分子与活性氧原子发生氧化反应，生成挥发性气体逸出样品表面，从而彻底清除粘附在样品表面上的有机污染物。【应用范围】在印制电路板生产中进行光清洗后，可以提高导线焊接时熔焊的接触面积，增加连接强度， 进而提高印制电路板的质量；LCD、OLED生产中进行光清洗后，可以提高基体表面润湿性，进而增强基体表面的粘合力；集成电路领域，光清洗可以实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤；光清洗还可以应用于提高半导体粘合力、清洗彩色滤光片表面有机污染物、提高光学玻璃镀 膜质量等场景； 此外，对清除石蜡、松香、油脂、人体体油、残余光刻胶、环氧树脂、焊剂；以及带有氧化 膜的金属表面处理，去除导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物，光清洗都是十分有效的方法。【仪器特点】采用5寸彩色触摸屏控制，可自主设定运行时间、加热温度、气路流量等流程参数加热、升降一体式样品台，升降行程50mm，便于样品与UV灯间距的调整样品台恒温控制，智能PID温度调节，设置范围RT~200℃，控温精度±1℃流量、加热、UV灯分别自动单独控制启闭，处理过程中可手动中断处理方式组合多样。可选择处理过程：是否启用样品台加热功能、打开供氧气路自动储存清洗参数设置，并生成历史记录，避免实验数据遗忘安全互锁。设备运行过程中，清洗腔上盖打开，设备自动关闭UV灯，并弹窗提示，避免紫外线对人伤害。标配流量数字化显示（可接入氧气或臭氧），可调节气路供气流量上置式样品台及上翻式开盖设计，取放样品方便，操作简单快捷波长254nm和185nm双波UV灯源，灯管寿命约为8000小时，配备UV反光罩使样品照射均匀化。一键化操作，减少工作强度【设备参数】 UV130样品台尺寸/mm150*150UV光管尺寸/mm130*130样品台升级行程/mm50流量范围（ml/min）0~1000外形尺寸（L*W*H）/mm445*300*245主机重量/kg11.5

详细信息CIF紫外臭氧清洗机采用长寿命UV石英低压汞蒸汽格栅灯，样品台高度可调并可选配加热控温功能，以达到z佳清洗效果。紫外臭氧清洗机（UVOzone Cleaner, UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）表面上的有机污染物。 按键式紫外臭氧清洗机 触屏式紫外臭氧清洗机产品特点v UVO基础型采用可编程数字控制器，设置操作简单方便，四键操作控制。UVOP和UVOT系列采用5寸彩色触摸屏设置显示计时时间及加热温度。v 自动补偿功能，自动恒定光强光密度，不会因为低压汞灯老化光强衰减影响清洗效果。v 数字倒计时显示清洗时间，1-999分钟之间可自行设置清洗时间。v 可随时手动中断处理过程。v 自动记录之前清洗参数设置。v 样品台可控温（可选），控温范围RT-260℃，控温精度0.1℃。v 顶置下压式铰链开关盖方式，操作简单方便。v 上置式样品台设计，360度自由放置样品，操作方便。v 样品台高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，并可锁定。v UV石英低压汞蒸汽格栅灯，灯管寿命大约为8000小时。v 高强度UV灯源，波长185nm和254nm。v UV反射罩（长x宽）比UV格栅灯大2.5cm，比如规格为13x13cm格栅灯反射罩尺寸大于15×15cm。v 双重安全保护，当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯，并有灯光通断提示。v 带进&出气口双气路设计，可接入氧气或者臭氧，增加臭氧产量。v UVO5可选外置臭氧中和器，UVO9、UVO12系列可选外置或者内置臭氧中和器，用于臭氧清除。v 可根据客户要求定制铝或石英材料真空反应腔。技术参数产品型号UV灯尺寸cm样品台高度cm主机重量kg外型尺寸（LxWxH）cmUVO5/UVO5P/UVO5T13x135cm内可调631x26x20UVO9/UVO9P/UVO9T23x235cm内可调12.560x50x20UVO13/UVO13P/UVO13T33x335cm内可调18.570x60x20注： UVO基础型样品台不带加热功能，样品台高度可调；UVOP可选配样品台加热功能，样品台高度可调；UVOT标配样品台加热功能，样品台高度可调。

CIF紫外臭氧清洗机紫外臭氧清洗机（UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。CIF紫外臭氧清洗机采用长寿命UV石英低压汞蒸汽格栅灯，样品台高度可调并可选加热控温，以便达到最清洗效果。产品特点u 可编程数字控制器，设置操作简单方便，四键操作控制。u 数字显示清洗时间，1-999分钟之间可自行设置清洗时间。u 任何时间可以手动中断处理过程。u 自动记录之前清洗参数设置。u 样品台可控温（可选），控温范围RT-260℃，控温精度0.1℃。u 上置式样品台设计，360度自由放置样品，操作方便。u 样品台高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，位置可锁定。u UV石英低压汞蒸汽格栅灯，灯管寿命大约为8000小时。u 高强度UV灯源，波长185nm和254nm。u UV反射罩（长X宽）比UV格栅灯大2.5cm，比如规格为13x13cm格栅灯反射罩尺寸大于15×15cm。u 双重安全保护，当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯，并有灯光通断提示。u 带进&出气口双气路设计，可接入氧气，增加臭氧产量。u 可选臭氧中和器，用于臭氧清除。u 可根据客户要求定制铝或石英材料真空反应腔。技术参数产品型号UV灯尺寸cm样品台高度cm主机重量kg外型尺寸（LxWxH）cmUVO5/UVO5P/UVO5T13x1310cm内可调631x26x20UVO9/UVO9P/UVO9T23x2310cm内可调12.560x50x20注：UVO型基础型样品台不带加热功能，样品台高度不可调；UVOP可选配样品台加热功能，样品台高度可调；UVOT标配样品台加热功能，样品台高度可调。

CIF紫外臭氧清洗机紫外臭氧清洗机（UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。CIF紫外臭氧清洗机采用长寿命UV石英低压汞蒸汽格栅灯，样品台高度可调并可选加热控温，以便达到清洗效果。产品特点u 可编程数字控制器，设置操作简单方便，四键操作控制。u 数字计时显示清洗时间，1-999分钟之间可自行设置清洗时间。u 任何时间可以手动中断处理过程。u 自动记录之前清洗参数设置。u 样品台可控温（可选），控温范围RT-260℃，控温精度0.1℃。u 上置式样品台设计，360度自由放置样品，操作方便。u 样品台高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，位置可锁定。u UV石英低压汞蒸汽格栅灯，灯管寿命大约为8000小时。u 高强度UV灯源，波长185nm和254nm。u UV反射罩（长X宽）比UV格栅灯大2.5cm，比如规格为13x13cm格栅灯反射罩尺寸大于15×15cm。u 双重安全保护，当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯，并有灯光通断提示。u 带进&出气口双气路设计，可接入氧气，增加臭氧产量。u 可选臭氧中和器，用于臭氧清除。u 可根据客户要求定制铝或石英材料真空反应腔。技术参数产品型号UV灯尺寸cm样品台高度cm主机重量kg外型尺寸（LxWxH）cmUVO5/UVO5P/UVO5T13x1310cm内可调631x26x20UVO9/UVO9P/UVO9T23x2310cm内可调12.560x50x20 注：UVO型基础型样品台不带加热功能，样品台高度不可调；UVOP可选配样品台加热功能，样品台高度可调；UVOT标配样品台加热功能，样品台高度可调。

CIF紫外臭氧清洗机紫外臭氧清洗机（UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。CIF紫外臭氧清洗机采用长寿命UV石英低压汞蒸汽格栅灯，样品台高度可调并可选加热控温，以便达到清洗效果。产品特点u 可编程数字控制器，设置操作简单方便，四键操作控制。u 数字计时显示清洗时间，1-999分钟之间可自行设置清洗时间。u 任何时间可以手动中断处理过程。u 自动记录之前清洗参数设置。u 样品台可控温（可选），控温范围RT-260℃，控温精度0.1℃。u 上置式样品台设计，360度自由放置样品，操作方便。u 样品台高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，位置可锁定。u UV石英低压汞蒸汽格栅灯，灯管寿命大约为8000小时。u 高强度UV灯源，波长185nm和254nm。u UV反射罩（长X宽）比UV格栅灯大2.5cm，比如规格为13x13cm格栅灯反射罩尺寸大于15×15cm。u 双重安全保护，当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯，并有灯光通断提示。u 带进&出气口双气路设计，可接入氧气，增加臭氧产量。u 可选臭氧中和器，用于臭氧清除。u 可根据客户要求定制铝或石英材料真空反应腔。技术参数产品型号UV灯尺寸cm样品台高度cm主机重量kg外型尺寸（LxWxH）cmUVO5/UVO5P/UVO5T13x1310cm内可调631x26x20UVO9/UVO9P/UVO9T23x2310cm内可调12.560x50x20 注：UVO型基础型样品台不带加热功能，样品台高度不可调；UVOP可选配样品台加热功能，样品台高度可调；UVOT标配样品台加热功能，样品台高度可调。

CIF紫外臭氧清洗机紫外臭氧清洗机（UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。CIF紫外臭氧清洗机采用长寿命UV石英低压汞蒸汽格栅灯，样品台高度可调并可选加热控温，以便达到清洗效果。产品特点u 可编程数字控制器，设置操作简单方便，四键操作控制。u 数字计时显示清洗时间，1-999分钟之间可自行设置清洗时间。u 任何时间可以手动中断处理过程。u 自动记录之前清洗参数设置。u 样品台可控温（可选），控温范围RT-260℃，控温精度0.1℃。u 上置式样品台设计，360度自由放置样品，操作方便。u 样品台高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，位置可锁定。u UV石英低压汞蒸汽格栅灯，灯管寿命大约为8000小时。u 高强度UV灯源，波长185nm和254nm。u UV反射罩（长X宽）比UV格栅灯大2.5cm，比如规格为13x13cm格栅灯反射罩尺寸大于15×15cm。u 双重安全保护，当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯，并有灯光通断提示。u 带进&出气口双气路设计，可接入氧气，增加臭氧产量。u 可选臭氧中和器，用于臭氧清除。u 可根据客户要求定制铝或石英材料真空反应腔。技术参数产品型号UV灯尺寸cm样品台高度cm主机重量kg外型尺寸（LxWxH）cmUVO5/UVO5P/UVO5T13x1310cm内可调631x26x20UVO9/UVO9P/UVO9T23x2310cm内可调12.560x50x20 注：UVO型基础型样品台不带加热功能，样品台高度不可调；UVOP可选配样品台加热功能，样品台高度可调；UVOT标配样品台加热功能，样品台高度可调。

CIF紫外臭氧清洗机紫外臭氧清洗机（UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。CIF紫外臭氧清洗机采用长寿命UV石英低压汞蒸汽格栅灯，样品台高度可调并可选加热控温，以便达到清洗效果。产品特点u 可编程数字控制器，设置操作简单方便，四键操作控制。u 数字计时显示清洗时间，1-999分钟之间可自行设置清洗时间。u 任何时间可以手动中断处理过程。u 自动记录之前清洗参数设置。u 样品台可控温（可选），控温范围RT-260℃，控温精度0.1℃。u 上置式样品台设计，360度自由放置样品，操作方便。u 样品台高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，位置可锁定。u UV石英低压汞蒸汽格栅灯，灯管寿命大约为8000小时。u 高强度UV灯源，波长185nm和254nm。u UV反射罩（长X宽）比UV格栅灯大2.5cm，比如规格为13x13cm格栅灯反射罩尺寸大于15×15cm。u 双重安全保护，当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯，并有灯光通断提示。u 带进&出气口双气路设计，可接入氧气，增加臭氧产量。u 可选臭氧中和器，用于臭氧清除。u 可根据客户要求定制铝或石英材料真空反应腔。技术参数产品型号UV灯尺寸cm样品台高度cm主机重量kg外型尺寸（LxWxH）cmUVO5/UVO5P/UVO5T13x1310cm内可调631x26x20UVO9/UVO9P/UVO9T23x2310cm内可调12.560x50x20 注：UVO型基础型样品台不带加热功能，样品台高度不可调；UVOP可选配样品台加热功能，样品台高度可调；UVOT标配样品台加热功能，样品台高度可调。

紫外臭氧清洗机（UVO）国bioforce公司成立于2005年，是全球知名的紫外臭氧清洗机（UV-Ozone）和纳米分子微矩阵点样系统和专业生产厂家，全球出名的实验室都有其产品。尤其Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统因其专业性及先进的技术被全球分子生物科学家所认可。美国bioforce公司紫外臭氧清洗机（UV-Ozone）主要有两款型号：UV Ozone Cleaner-ProCleaner™ Plus、UV Ozone Cleaner-ProCleaner™ ，主要用于去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。技术性能u 紫外灯类型：石英低压汞蒸汽格栅灯，灯管寿命大于5000小时。u 紫外线强度：14.76Mw/cm2@253.7nm(1cm距离)。u 安全联锁和指示灯；内置的安全联锁开关,当抽屉打开时会自动关闭紫外灯以避免紫外线接触。u 高强度UV灯源：波长185nm\254nm。u UV反射罩有效范围：125x150mm。u 抽屉式样品台。 u 样品台尺寸：115x134mm。u 可吸收紫外线的石英样品基座盘尺寸：102x102x19mm。u 抽屉样品台与紫外灯距离：30mm。u 样品基座与紫外灯距离：10mm。 u UV灯管尺寸：100x125mm。u UV灯电源：4000V,30mA。u 机械定时器,最长可定时运行时间60分钟。u 处理样品高25mm。 u 外形尺寸：241.3x250x152.5mm。u 重量：4.08kg。u 欧盟CE认证。

PCE-22是一款可加热型的紫外臭氧清洗机，其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片，为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶，改善表面润湿性，清洗SEM &TEM，紫外对聚合物改性等。 紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段，特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光：185nm和254nm。其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧，254nm可以破坏化合物中的键（特别是碳碳键）。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物。 技术参数电源AC 208~240V，单相 50/60Hz紫外灯可发出双波长的水银灯功率：55W发出光的波长：254 nm 和 185 nm 使用寿命：2500 小时（可在本公司购买紫外灯来更换）照射区域：200 x 200 mm腔体&样品台不锈钢壳体抽屉式样品台，以便放样取样样品台面积310 mm x 320 mm臭氧通风装置安装在腔体上样品台与紫外灯的距离：20mm -40mm（可调）样品台可以加热，最高温度可达150℃可设置20段升降温程序，控温精度为+/-1℃设备运行时间：0.01 秒- 99.9小时排气口直径为80mm的排气口安装在仪器后端请将橡胶管与排气口连接，将臭氧排出到实验室外仪器中不包含橡胶管外形尺寸510mm x 350mm x 400mm (W x H x D) 净重28kg质保期一年质保期，终生维护（不包含紫外灯）应用去除分子级别的污染物紫外光固化粘合剂紫外光催化氧化PDMS表面消毒刻蚀清洗MEMS 器件清洗各种基片，如Si, Ge, GaAs和各种氧化物单晶基片

PCE-66是一款小型紫外臭氧清洗机，可用于清洗各种单晶基片，以保证更好的成膜质量。同时也可去除光刻胶、改善材料表面润湿性、清洗SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等。内置加热管，可加热基片，最高加热温度150℃，PID方式控温，可设置30段升降温程序。体积小，重量轻能除去分子级别的污染物可清洗各种基片产品名称PCE-66紫外臭氧清洗机产品型号PCE-66主要参数1、电源：AC 220V 50HZ2、功率：750W3、最高加热温度：150℃4、照射时间设定：0-30min5、标配一块石英样品台用于放置基片，避免污染6、石英样品台尺寸：150*150*20mm7、抽拉盒尺寸：200*230*23mm8、紫外线灯 形态：UV灯管 功率：8W*4=32W 波长：185nm+254nm 辐照面积：150*150mm 光照强度：80μW/cm29、风机 设备背面设有一个排风口，尺寸：φ80mm 标配一个风机安装在设备背面的排风口，设备背面的三芯插座为风机的电源插座 将铝波纹管与风机连接，将臭氧排出到实验室外 标配波纹管长度：5米10、温控系统 包含一款858P型温度控制器； PID自动控温系统； 智能化30段可编程控制； 内置过热保护和热电偶故障报警； 控温精度：±1℃；11、产品规格： 抽屉不打开尺寸：长270mm*宽300mm*高247mm 抽屉打开尺寸：长270mm*宽540mm*高247mm重量：约8.6kg UV装置应由工矿企业、院校等相关专业人员操作或指导使用。 严禁直接用眼直接看点亮中的UV灯管，否则会引起眼的伤害，非常危险。 O3臭氧是刺激性臭及强氧化性的气体，对身体有害。尽量在通风柜或通风环境使用。 应避免在高温、多湿、多尘、腐蚀气体、酸碱性等的环境中使用。 为保护生命，请务必连接接地线，并保证可靠。 清扫等作业时必须先将电源切掉。 未经许可不可对本装置进行改造或加工，本公司一概不负对已改造、加工设备的责任。 操作时请使用清洁的手套。用手直接接触UV灯管会在灯管外表留下指纹，使紫外线的透过率降低。灯管上摸上指纹时，请用沾酒精的棉布擦去。（注：灯管属耗材，不在保修范围内） 如需更换灯管时，必须切断电源，手拿灯管时应戴好棉手套。（注：需要专业工作人员进行更换） 石英照射管随着时间的推移，内外面会吸附污尘，引起紫外线透过率下降，根据污染情况请定期进行清洗。

PCE-22紫外臭氧清洗机是一款可加热型的紫外臭氧清洗机，其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片，为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶，改善表面润湿性，清洗SEM &TEM，紫外对聚合物改性等。 紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段，特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光：185nm和254nm。其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧，254nm可以破坏化合物中的键（特别是碳碳键）。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物。1、仅室内使用 海拔高度5500英尺以内 2、温度范围：5-40℃ 3、相对湿度上限80％，30.5℃，40℃线性降至50％相对湿度 4、主电源波动不超过额定电压的10％ 5、污染等级2 臭氧水平（环境）测量45 ppb。6、去除分子级别的污染物7、紫外光固化粘合剂8、紫外光催化9、氧化PDMS10、表面消毒11、刻蚀12、清洗MEMS 器件13、清洗各种基片，如Si, Ge, GaAs和各种氧化物单晶基片产品名称 PCE-22紫外臭氧清洗机产品型号 PCE-22主要参数 1、功率：上限350W2、AC 208~240V，单相 50/60Hz腔体&样品台1、不锈钢壳体2、抽屉式样品台，以便放样取样3、样品台面积310 mm x 320 mm4、臭氧通风装置安装在腔体上5、样品台与紫外灯的距离：20mm -40mm（可调）6、样品台可以加热，温度上限可达150℃7、可设置20段升降温程序，控温精度为+/-1℃8、设备运行时间：0.01 秒- 99.9小时排气口1、直径为80mm的排气口安装在仪器后端2、请将橡胶管与排气口连接，将臭氧排出到实验室外3、仪器中不包含橡胶管紫外灯1、可发出双波长的水银灯2、功率：55W3、发出光的波长：254 nm 和 185 nm4、使用寿命：2500 小时（可更换）5、照射区域：200 x 200 mm6、可以清洁直径上限为12英寸x 35毫米的晶体晶片。产品规格 1、尺寸：510mm x 350mm x 400mm (W x H x D)2、重量：28kg

产品详情紫外UV清洗机 LXY-PL17-110 详细介绍 紫外臭氧清洗机型号Model：PL17-110 应用Objects光清洗改质实验装置UV/O3 cleaning and modifying experiments尺寸Dimensions： 约350W*350D*380H(mm)电源Power supply： 220V 50/60Hz功率Power consumption ：140W照射面积Irradiation area： 170*170MMUV 能量Uv intensity： 25-35mW/cm2灯总功率Total lamp wat.： 110W灯型号Lamp model 日本SEN 原装进口：SUV110GS-36灯数量Number of lamps ：1PCS 特点: 本装置是为了运用短波长紫外线254NM 和185NM 双波段进行表面处理、干式清洗的效果而设计制作的试验机。所使用的光源为日本原装进口SEN 特殊光源, 110W 合成石英玻璃的面光源。本机的正面为单开门，试验品可以很容易的放取。试验台到光源使用特定的升降机可以任意改变高度，照度可以使用照度计测定。机器内部产生的臭氧经过特别设置的排出口排出。同时我们还有例如200mm 角300mm 角面光源，两面照射，抽出式试验台，旋转式照射台等多种姊妹产品供您选择。构成和构造:光源到试验台之间最大有80mm 距离，因此无论是玻璃/胶片型还是立体物品都可以处理。照射距离可使用手动升降机调节高度。在门上设有观察窗，可以通过观察窗随时确认被照射物体的状态。 紫外光UV清洗原理紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，高于大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有极强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，彻底清除物体表面的污染物。应 用紫外线UV光清洗技术的应用范围:1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,硅)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理 2.清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/聚酰亚胺和环氧树脂3.高精度PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成；4.超高真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，可以极大的提高基体表面润湿性，增强基体表面的粘合力；6。印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，可以提高熔焊的接触面积，大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒，可以大大提高印制电路板的质量。7。大规模集成电路的密度越来越高，晶格的微细化越来越密，要求表面的洁净度越来越高，光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤。 8。在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，可以提高粘合力，防止针孔、裂缝的发生9。在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，可以提高光盘的质量。10。磁头固定面的粘合，磁头涂敷，以及提高金属丝的连接强度，光清洗后效果好。11。石英晶体振荡器生产中，除去晶体检测后涂层上的墨迹，晶体在银蒸发沉积前，进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。12。在IC卡表面插装ROM前，经过光清洗可提高产品质量。13。彩色滤光片生产中，光清洗后能彻底洗净表面的有机污染物。14。敷铜箔层压板生产中，经过光照改质，不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层，产品质量显著提高15。光学玻璃经过紫外光清洗后，镀膜质量更好。16。树脂透镜光照后，能加强与防反射板的粘贴性。

产品详情 美Novascan 紫外臭氧清洗机型号及尺寸： 技术规格表：NOVASCAN清洗机在外观和尺寸方面相似，但是在控制能力，升级性和加热板选项方面有所不同。 1 基本系列： 基本型清洗机是预定时的台式清洗设备。方便的预设置控制器控制，非常容易操作。? 预定时控制器? 方便简单的两按键操作? 自动工作：15.30.60.120分钟? 工作进程可以在任何时候手工终止 2 数字定时系列： 数字定时系列是研究级的紫外臭氧清洗系统，可编程数字控制器来确保精确时间和优化清洗参数。? 可编程数字控制器? 数字显示倒计时? 轻松升级到热盘选项? 可执行暂停和终止指令? 内部存储器用于记录之前的参数设置 3 加热盘系列： 加热型清洗机是最畅销的紫外臭氧清洗机型号，带PID反馈回路的数字控制器能精准保持热盘的温度，温度范围可达200摄氏度。（300摄氏度可定制）? 和数字定时系列相同，但标准配置加热盘? 高利用率和高灵活性? 适应多用户环境 4 双灯系列 双灯系列：可以从上面和下面同时处理样品。适合那些需要正反面同时处理的应用。? 和数字定时系列相同，但标准配置两个灯管? 适合双面同时处理的应用? 适应多用户环境 可选附件：。紫外臭氧消除器。NOVASCAN臭氧消除系统，属于NOVASCAN紫外臭氧清洗机可选附件。。用于清洗完成。后排除和分解清洗空间的臭氧。包含一个臭氧消除模块以及一个特氟龙臭氧泵，以及连接软管。 真空石英反应器真空石英反应器是一个密闭带石英窗口的反应装置，可以安装在样品台上，通过两个进气软管，可以较好的实现充氧气、氮气、或是其他保护气体。 光谱图： 工作原理 ：NOVASCAN 清洗机通过产生 185nm 和 254nm 高强度 UV 光分解有机分子（污染物）。185nm 的光可以将氧分子 O2转变成活性的 O3臭氧分子。254nm 的光同时激发表面的有机分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在时间短并且同时也被 254nm 光分解，样品台可以调节样品到灯管的距离来优化性能。PSD 和PSDP 分解有机污染物，然后形成 CO2和 H2O 蒸气，同时也将臭氧分子转变成氧分子。 一般特性：电 源：220.240VAC.50-60周期。样品高度：所有系统都配置可调节高度的样品台0-100mm，调节灯与样品之间的间距，并带位置锁定，标准样品台尺寸为UV格栅灯大小或更大。UV格栅灯：产生臭氧的低压汞格栅灯，带反射罩。灯管寿命大约为5000小时。UV反射罩：UV反射罩一般比UV格栅灯大一英寸。比如4×4英寸灯管反射罩尺寸是5×5英寸。真空反应腔：选项客户化定制，铝或石英材料。样品放置：打开清洗腔上盖，露出样品台，允许360度装入样品。安全装置：当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯。进出气口：标准配置2个气接口，可选更多。温度范围：150摄氏度 (选项)臭氧中和器：中和器和泵用于臭氧排除。（选项） 案例分析：1. 新玻璃片通常不洁净，使用NOVASCAN清洗机（室温空气中操作），表面可以非常容易和快速的清洁到原子级别。 2. 使用AFM原子力显微镜观察玻璃片表面，比较NOVASCAN紫外臭氧清洗机处理前后的效果。（注意最后一幅数据经过了放大处理以反映玻璃表面颗粒）

紫外臭氧清洗工作原理：清洗设备的核心是低压石英汞灯，产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和等离子氧气产生，有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解。激发的有机污染物可以和等离子氧原子反应形成气体，比如CO2,H2O等。整个过程在室温**发生，并且只需要1到几分钟完成。*注1：白色氧化铝暴露在UV能量下会变黄。这种现象是由于基材吸收UV能量， 而不是一种涂层。这种氧化铝在加热情况下会转化为他原来的颜色。**注2：清洗元件温度的上升取决清洗过程的时间长度。在大多数应用，元件温度可以视为室温。UV紫外臭氧清洗的特点: 超洁净表面 室温操作 快速－大多数应用10分钟内可完成 运行简单 超低采购成本和zui小运行成本 10×10 英寸（25.4×25.4cm） 220伏T10X10紫外臭氧清洗机是一款台式的紫外臭氧清洗设备。通过紫外线（185nm和254nm）和臭氧清洗基材表面，能够简单，经济，快速获得超洁净表面。能去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝*等）上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时，紫外清洗非常理想。获得超洁净的表面，只需要在传统清洗后，再用紫外臭氧清洗几分钟。T10X10紫外臭氧清洗机的属性：UVOC紫外清洗机Model型号 T10x10/OES光照尺寸10" x 10"（25.4×25.4cm）有效面积:100 sq. in.宽:14"深:23 3/4"高:14.5"托盘推出深度:33"滑行托盘:1结构:箱体和托盘为不锈钢结构功耗:110Vac / 60Hz 5A Max or 230Vac / 50Hz 2.5 amp Max臭氧排气系统:有臭氧排气系统排气口尺寸:3" 直径排气需要:100cfm定时器:在开始或结束时峰鸣"ON"指示器:有有

产品详情 美国Jelight紫外光 加臭氧清洗机Jelight 42，144AX，342，256，288A■ UVO-CLEANER 紫外光加臭氧 清洗机是去除有机污染物(Organic Contaminants) 最安全、最有效率的方式特別是针对”矽晶片”，”砷化鎵”，”石英”，”蓝宝石”，”玻璃”，”云母”，”陶瓷” 及”金属” 等材料。 各种型号与规格： *附加功能： 。可切换式双进口及调节阀 。双数字显示计时器可控制清洗及废气排气之周期时间 。灯管使用时计数器 。附紧急停机装置 ■ UV plus [O] is the magic!有机污染分子(如"光阻剂"，"树脂"，"人类表皮油脂"，"清洁剂残留物"，"矽油"，"助燃剂" 等)。经吸收短波长之UV 輻射(253.7nm) 即变成激发狀态之分子，再与活性氧原子[O] 起反应/ 結合，即形成易挥发之分子，离开物体表面，如此即达到其清洗之效果。 ■ 多种不同系統与照射時間之清洗效率比较表 选购项目：• 高功率Suprasil UV Lamp ：可大幅提升紫外光加臭氧清洗机之清洗效率• 臭氧分解器(Ozone Killer) ：可分解排放废弃中之臭氧, 且易与清洗机及废气排放系統做连接• 臭氧排放风箱(Blower) ：与臭氧分解器之出风口连接可增強废气排放之速率 美国JELIGHT紫外臭氧清洗机JELIGHT 紫外清洗机是一种快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子对有机物质所起的光敏氧化作用以达到清洗粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物）的目的。是清除硅、砷化镓、石英、蓝宝石、玻璃、云母、陶瓷、金属等表面有机污染物的最安全、最有效的方法。 除清洗外，JELIGHT紫外清洗机还可用于表面改质，如通过紫外处理后，涂层与表面的粘附力可大大增加，并可用于生物芯片制作过程中PDMS键合等。 紫外清洗优点• 被清洗的表面除了光子，不与任何物体发生接触，有机物经过紫外光照射发生光敏氧化反应后，生成可挥发性气体（CO2、CO、H2O等）从表面消散，随着排风系统抽走。• 表面洁净度高，且不会像溶液清洗时发生二次污染。• 光清洗的表面不会受到损伤，由于光子的能量相对比氩等离子体溅射或惰性气体离子轰击的能量小，光清洗后的表面不会受到损伤或发生晶体缺陷的现象。• 光清洗对物体表面微细部位（如孔穴、微细沟槽等）具有有效而彻底的清洗效果。由于紫外光是纳米短波紫外线，能够射入材料表面的极为 细微的部位，发生光敏氧化反应，充分表现出光清洗的彻底性。 相关应用• 在进行薄膜沉积之前先进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。• 清洗硅芯片，透镜，反光镜，太阳能面板，冷轧钢，惯性引导零件和 GaAs芯片• 清洁焊剂，混合电路以及平板LCD显示器• 蚀刻特氟隆，氟橡胶以及其它有机材料• 增强GaAs 和Si氧化物钝化表面• 增强玻璃的除气作用• 基片蓝膜去除• 增强塑料表面的镀膜的粘附性• 基片终测后墨迹清楚• 去除光刻胶• 平板显示器/液晶显示器• 去除光刻机台上的光刻胶残留物• 在电路板封装和打片之前清洗• 光纤• 增强表面亲水特性• 为生物科学应用做清洗和消毒• 光学透镜• 其它应用臭氧发生器Ozone Generator臭氧（氧化电位2.7eV）的反应活性相当强，是一种强氧化剂。在许多新领域的研发过程中，它逐渐成为不可缺少的元素之一。其中包含化学实验室，大学以及电子，医药，化学，生物和医学研究机构。在工业应用的范围也增加许多。例如半导体产业，环境研究。饮用水及污水处理，塑料和包装产业以及食品加工技术。臭氧也被常用为杀菌与消毒液体，气体和固体有机物质。无论是单一的实验室或实验工厂，甚至工业生产的规模，由于新的技术，使生产臭氧不再成为经济负担。本公司的产品专门使用低压汞气灯所放射出的短波紫外线，来产生纯净的臭氧。订购时，请指明120VAC/60Hz或220VAC/50Hz的电源供应器。型号：2000■ 可产生臭氧浓度超过6000ppm.■ 进出的埠为直径6米。■ 可调式流量计安装于机台的主面，最高流量定为5L/min。使用者可依照臭氧浓度的需求而调整此控制。■ 机器内提供冷却系统，增强紫外线灯的寿命。■ 尺寸（长*宽*高）：42公分*25公分*16.5公分■ 保用寿命：1年（灯管的寿命不包含在内） 型号：1000■ 原为OEM产品，适合安装在多种设备或一般封箱内。■ 进出的埠为直径6米。■ 臭氧产生的浓度相同于型号：2000■ 外壳以不锈钢电镀形成。■ 需外加适当的冷却系统，增强紫外灯的寿命。■ 尺寸（长*宽）：30公分*5公分■ 保用寿命：1年（灯管的寿命不包含在内） 型号：600■ 机型的尾端安装1组石英材质灯套。■ 使用者可因臭氧浓度的需求来调整灯套盖过紫外线灯的长短。■ 臭氧浓度调整：ppb~3100ppm。■ 进出的埠为直径6米。■ 外壳以不锈钢电镀形成。■ 尺寸（长*宽）：23公分*2.5公分。■ 保用寿命：1年（灯管的寿命不包含在内）

CIF紫外臭氧清洗机采用长寿命UV石英低压汞蒸汽格栅灯，样品台高度可调并可选加热控温，以便达到清洗效果。产品特点v UVO基础型采用可编程数字控制器，设置操作简单方便，四键操作控制。UVOP和UVOT系列采用5寸彩色触摸屏设置显示计时时间及加热温度。v 自动补偿功能，自动恒定光强光密度，不会因为低压汞灯老化光强衰减影响清洗效果。v 数字倒计显示清洗时间，1-999分钟之间可自行设置清洗时间。v 可随时手动中断处理过程。v 自动记录之前清洗参数设置。v 样品台可控温（可选），控温范围RT-260℃，控温精度0.1℃。v 顶置下压式铰链开关盖方式，操作简单方便。v 上置式样品台设计，360度自由放置样品，操作方便。v 样品台高度可调，通过调节灯与样品之间的间距，可以合理定位样品高度和位置，并可锁定。v UV石英低压汞蒸汽格栅灯，灯管寿命大约为8000小时。v 高强度UV灯源，波长185nm和254nm。v UV反射罩（长x宽）比UV格栅灯大2.5cm，比如规格为13x13cm格栅灯反射罩尺寸大于15×15cm。v 双重安全保护，当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯，并有灯光通断提示。v 带进&出气口双气路设计，可接入氧气或者臭氧，增加臭氧产量。v UVO5可选外置臭氧中和器，UVO9、UVO12系列可选外置或者内置臭氧中和器，用于臭氧清除。v 可根据客户要求定制铝或石英材料真空反应腔。技术参数产品型号UV灯尺寸cm样品台高度cm主机重量kg外型尺寸（LxWxH）cmUVO5/UVO5P/UVO5T13x135cm内可调631x26x20 注：UVO型基础型样品台不带加热功能，样品台高度不可调；UVOP可选配样品台加热功能，样品台高度可调；UVOT标配样品台加热功能，样品台高度可调。

紫外臭氧清洗机UV Ozone CleaningPSDP-UVT系列Novascan紫外臭氧清洗机常用于扫描探测显微镜的样品应用，Novascan紫外臭氧清洗机能用于清洗原子力显微镜探针，扫描探针显微镜标准和表面上常规的油渍层和残留的无机材料，也能用来改变物体表面的疏水性，有助于部件和表面的化学改性，经过氧化和硬化处理的探针有利于在扫描过程中保持探针的几何形状，削尖的探针有利于提高侧向分辨率。处理材料硅、氧化硅、金属、砷化镓氮化硅、云母、陶瓷、聚合物（有机玻璃）硼硅玻璃、石英、蓝宝石和其他材料。常见应用工艺表面的原子级清洗聚合物粘接去除有机分子释放捕获的无机分子微流控制作微米/纳米构型紫外光固化表面化学改性表面杀菌表面氧化金属粘结准备PSDP-UVT系列特点1. 数字控制加热盘可以设置高达150摄氏度2. 可调节托盘高度3. 安全开关防止使用者被紫外光照射4. 可编程数字控制器5. 数字显示倒计时6. 可执行暂停和终止指令7. 内部存储器用于记录之前的参数设置8. 高利用率和高灵活性9. 室温操作，使用空气或是氧气PSDP内置加热盘 PSDP-UVT 新增加一个加热盘，将PSDP-UV 的能力提升到了新的水平，使其能更好地分解有机分子物质。带PID 反馈回路的数字控制器能精准保持热盘的温度，温度范围可达150 摄氏度。产品参数样品高度：所有系统都配置可调节高度的样品台，调节灯与样品之间的间距，并带位置锁定，标准样品台尺寸为UV格栅灯大小或更大。UV格栅灯：产生臭氧的低压汞格栅灯，带反射罩。灯管寿命大约为5000小时。UV反射罩：UV反射罩一般比UV格栅灯大一英寸。比如4×4英寸灯管反射罩尺寸是5×5英寸。样品放置：打开清洗腔上盖，露出样品台，允许360度装入样品。安全装置：当清洗腔打开时，系统安全锁会关掉UV灯。进出气口：标准配置2个气接口，可选更多。反应腔：选项客户化定制，铝或石英材料。臭氧中和器：中和器用于臭氧排除。（PSD和PSDP选项）

我们所提供的紫外臭氧清洗系统是一种简单，经济，高效的材料表面清洗设备。只需把样品放置到托盘上，关上舱门，设置时间，按下运行按钮，就可以在几分钟内，快速去除大多数无机基材上的有机污染物，为您提供超洁净的表面。通过使用高功率紫外线光源产生臭氧，将污染物分解成挥发性化合物。这些挥发性化合物从表面蒸发而不留痕迹。这种方法可产生接近原子级的清洁表面并且不会损坏样品。应用工艺：改善表面亲水性表面清洗准备薄膜沉积表面处理紫外固化表面灭菌消毒去除表面单分子膜表面氧化清洗AFM / STM探针清洗光学元件可清洗的基材示例：石英、硅、氧化硅、氮化硅、金、镍、铝、砷化镓、矾土、玻璃、不锈钢......可去除的污染物示例：光刻胶、树脂、人体皮肤油脂、清洗溶剂的残留物、塑料/硅片表面油渍、助焊剂......产品特点：成本低；120x120mm样品台；最大处理样品高度为14mm；抽屉式样品台，简单方便； 样品台自安全联锁，防止对人身伤害； LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”；60分钟计时器；高强度紫外线灯源；可控温的样品台；样品清洗无需溶剂；超净表面。产品参数：紫外灯类型合成石英紫外灯紫外灯主要波长185 nm 和 254 nmUV灯管尺寸100 mm x 100 mmUV灯电源4000 V, 30 mAUV灯使用寿命T80（2000小时） 8 - 10年的标准日常使用适用电压230 V, 0.6 A , 50 Hz // opt. ( 110 V, 1.2 A, 60 Hz )最大运行时间59分59秒安全特点安全联锁，高温报警，高温断电托盘尺寸120 mm x 120 mm样品最大尺寸100 mm x 100 mm总尺寸宽 204 mm，高 227 mm，长 300 mm 下图显示了UV臭氧处理对基材的影响，以改善表面亲水性。 水滴在OTS处理的硅基底(300纳米二氧化硅表面)上，经过紫外臭氧清洗处理前（左图）和处理后（右图）的效果对比。

紫外臭氧清洗机 HWUVO-3/HWUVO-6/HWUVO-9型仪器简介紫外臭氧清洗机是一款用于无机基材（比如：石英、硅片、金、镍、铝、砷化镓、氧化铝等）表面有机污染物去除的表面清洗设备。低压紫外汞灯能够同时发射波长254nm和185nm的紫外光，在这两种短波紫外光的照射下，活化有机物分子与活性氧原子发生氧化反应，生成挥发性气体逸出样品表面，从而彻底清除粘附在样品表面上的有机污染物。应用领域1、PCBA（印制电路板）生产中进行光清洗后，可以提高导线焊接时熔焊的接触面积，增加连接强度，进而提高印制电路板的质量；2、LCD、OLED生产中进行光清洗后，可以提高基体表面润湿性，进而增强基体表面的粘合力；3、集成电路领域，光清洗可以实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤；4、可用于提高半导体粘合力、清洗彩色滤光片表面有机污染物、提高光学玻璃镀 膜质量等场景；5、对清除石蜡、松香、油脂、人体体油、残余光刻胶、环氧树脂、焊剂；以及带有氧化膜的金属表面处理，去除导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物，光清洗都是十分有效的方法。功能特点1.1采用5寸彩色触摸屏控制，可自主设定运行时间、加热温度、气路流量等流程参数；1.2加热、升降一体式样品台，升降行程50mm, 便于样品与UV灯间距的调整；1.3样品台恒温控制，智能PID温度调节，设置范围RT~200℃, 控温精度±1℃；1.4流量、加热、UV灯分别自动单独控制启闭，处理过程中可手动中断；1.5组合式处理方式，可自由选择：是否启用样品台加热功能、打开供氧气路；1.6自动储存清洗参数设置，并生成历史记录，避免实验数据遗忘；1.7安全可靠，设备运行过程中，清洗仓仓盖打开时自动关闭UV灯，并弹窗提示，避免紫外线伤害；1.8标配流量数字化显示(可接入氧气或臭氧),可调节气路供气流量；1.9上置式样品台及上翻式开盖设计，取放样品方便，操作简单快捷；1.10波长254nm和185nm双波UV灯源，灯管寿命约为8000小时，配备UV反光罩使样品照射均匀化；1.11一键化操作，减少工作强度。技术参数仪器型号UVO-3UVO-6UVO-9外观图片栅格灯尺寸/mm220*270130*130230*230样品台尺寸/mm220*270150*150220*270样品台升降行程/mm505050加热温度范围/℃室温-200℃流量范围(ml/min)选配0-10000-1000外形尺寸(L*W*H)/mm450*390*270445*300*245500*360*250主机重量/kg1011.515UV光波长185nm、254nmUV灯管双波长灯管一体式低压汞蒸气栅格灯灯管寿命约5000小时约8000小时机身材质304不锈钢、塑料304不锈钢和氧化铝安全防护功能--仓盖打开时，灯管自动熄灭

PCE-66是一款小型紫外臭氧清洗机，可用于清洗各种单晶基片，以保证更好的成膜质量。同时也可去除光刻胶、改善材料表面润湿性、清洗SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等。内置加热管，可加热基片，最高加热温度150℃，PID方式控温，可设置30段升降温程序。带有搅拌功能，用作氧化物包括干法电极电池正极材料的表面处理。体积小，重量轻能除去分子级别的污染物可清洗各种基片带有搅拌机构，可用于电池正极材料的表面处理产品名称PCE-66紫外臭氧清洗机（带搅拌机构）产品型号PCE-66主要参数1、电源：AC 220V 50HZ2、功率：550W3、最高加热温度：150℃4、照射时间设定：1-30min5、标配一个圆形物料盒，用于放置粉末样品，圆形物料盒尺寸：内径φ140*深度14mm6、UV灯管 形态：UV灯管 功率：8W*4=32W 波长：185nm+254nm 辐照面积：150*150mm 光照强度：80μW/cm27、搅拌机构 设备顶部安装了搅拌机构，用于对粉末材料的表面处理 搅拌电机电压和功率：DC 24V 5 W 搅拌速度：5-20rpm/min可调（旋转前面板上的转速旋钮调节） 搅拌杆可调节高度：22mm 三片120度均匀分布的搅拌桨，使物料搅拌更均匀，搅拌桨搅拌的直径范围≤φ135mm8、风机 设备背面设有一个排风口，尺寸：φ80mm 标配一个风机安装在设备背面的排风口，设备背面的三芯插座为风机的电源插座 将铝波纹管与风机连接，将臭氧排出到实验室外或通风柜 标配波纹管长度：5米风机型号：HF-75，风压：150Pa功率：35 W ,风量：220m3/h电压：AC 220V/50hz，噪音：31dB转速：2600r/min，口径：72mm10、温控和加热系统基片台底部布置有一个W型不锈钢加热管。加热管功率：450W，最高加热温度：150℃，电源电压：AC 220V 包含一款708型温度控制器； PID自动控温系统； 智能化30段可编程控制； 内置过热保护和热电偶故障报警； 控温精度：±1℃；11、产品规格： 长265mm*宽563mm*高419mm（宽度包含风机，高度包含搅拌电机）重量：约11kg UV装置应由工矿企业、院校等相关专业人员操作或指导使用。 严禁直接用眼直接看点亮中的UV灯管，否则会引起眼的伤害，非常危险。 O3臭氧是刺激性臭及强氧化性的气体，对身体有害。尽量在通风柜或通风环境使用。 应避免在高温、多湿、多尘、腐蚀气体、酸碱性等的环境中使用。 为保护生命，请务必连接接地线，并保证可靠。 清扫等作业时必须先将电源切掉。 未经许可不可对本装置进行改造或加工，本公司一概不负对已改造、加工设备的责任。 操作时请使用清洁的手套。用手直接接触UV灯管会在灯管外表留下指纹，使紫外线的透过率降低。灯管上摸上指纹时，请用沾酒精的棉布擦去。（注：灯管属耗材，不在保修范围内） 如需更换灯管时，必须切断电源，手拿灯管时应戴好棉手套。（注：需要专业工作人员进行更换） 石英照射管随着时间的推移，内外面会吸附污尘，引起紫外线透过率下降，根据污染情况请定期进行清洗。