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仪器信息网 3i讲堂 集成电路先进工艺光刻机与芯片设计
1 1 投诉 分享 4552 2022-10-13
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集成电路先进工艺光刻机与芯片设计

所属会议:首届半导体工艺及其检测技术网络会议
集成电路制造中最核心的设备之一是光刻机。它涉及到精密光学、精密移动、精密传输、高精度控制和系统集成等多项先进工程技术。经历过5代技术后，当进入到更加先进的集成电路设计工艺节点10nm以下时，产业界必须采用EUV 光刻机来取代沿用了多年的DUV 光刻机。我们将简单介绍从DUV 到 EUV 的技术进步与技术特点，并讨论由光刻机带给芯片设计的相应难题和解决方法。

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陈春章
研究员

鹏城实验室
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