DRC化学分辨技术在高纯材料杂质分析中的应用-仪器信息网3i讲堂

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DRC化学分辨技术在高纯材料杂质分析中的应用

[报告]DRC化学分辨技术在高纯材料杂质分析中的应用

开始时间: 2024-04-23 14:30

主讲老师: 高光晔 | 技术支持经理

所在公司: 珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司

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报告相关会议

第三届ICP-MS技术进展与应用网络研讨会

2024年04月23日 09:00 -- 04月24日 18:00

电感耦合等离子体质谱仪（Inductively coupled plasma mass spectrometer，简称ICP-MS）因其检出限低，检测速度快，所需样品少，可以同时测定十几种痕量无机元素等优点，在食品、环境、材料、生命科学、医药、石化等领域广泛应用。为此，仪器信息网将于2024年4月23-24日举办“第三届ICP-MS技术与应用进展主题网络研讨会”，会议特别邀请国内外ICP-MS技术应用领域的专家学者,就ICP-MS技术在食品安全、环境监测、冶金检测、新能源、生命科学研究等领域的最新进展进行交流讨论。此次网络会议通过报告专家与参会者的深入交流，为参会者提供一个突破时间地域限制的免费学习、交流平台，让大家足不出户便能聆听到精彩报告。将会议链接转发至朋友圈邀请好友参会，集赞30个即可获得《ICP-MS实战宝典》一本，可添加助教微信（微信号：13261573827）领取！

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报告介绍

报告介绍：

高纯材料（99.999%以上纯度）中的杂质分析，基体元素的含量往往大于杂质元素的100万倍，一旦基体元素与试剂、工作气体中的某种组分形成的多原子离子与待测杂质的测定同位素离子质量数相同，将对测定同位素离子形成几万倍或几十万倍的干扰，这种程度的干扰是无法通过数学校正和碰撞（KED）动能歧视校正技术消除，只能采用化学分离（萃取、共沉淀等）或化学分辨（DRC）技术进行处理，本报告将对各种基体的Ar分子离子、氮化物离子、卤化物离子、氧化物离子、氢氧化物离子、氢化物离子产生的干扰进行讨论，重点介绍用DRC化学分辨技术消除这些干扰的技术要点及对ICP-MS仪器的硬件要求！

主讲老师：

高光晔

1993年毕业于复旦大学化学系，长期从事原子光谱应用和金属材料检测工作，曾担任ISO/TC17/SC1（钢铁化学分析）在华技术联系人。曾担任多家原子光谱厂商的技术支持经理（维修与应用），现负责PerkinElmer原子光谱产品技术支持工作，负责ICPMS、ICPOES和AA等产品。兼任原子光谱应用与技术委员会委员，北京理化分析测试技术学会理事

参会说明：