激光共聚焦成像显微镜

VT6000激光共聚焦成像显微镜是一款用于对各种精密器件及材料表面进行微纳米级测量的检测仪器。它基于光学共轭共焦原理，结合精密纵向扫描，以在样品表面进行快速点扫描并逐层获取不同高度处清晰焦点并重建出3D真彩图像，从而进行分析。VT6000国产共聚焦显微镜微一般用于略粗糙度的工件表面的微观形貌检测，可分析粗糙度、凹坑瑕疵、沟槽等参数。

产品功能

(1)设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能；

(2)设备具备自动拼接功能，能够快速实现大区域的拼接缝合测量；

(3)设备具备一体化操作的测量与分析软件，预先设置好配置参数再进行测量，软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能，即可快速实现批量测量功能；

(4)设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能；

(5)设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；

(6)设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能，可实现批量数据文件的快速分析功能；

应用领域

VT6000激光共聚焦成像显微镜各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。

应用范例：

功能特点

1、测量模式多样

VT6000激光共聚焦成像显微镜单区域、多区域、拼接、自动测量等多种测量模式可选择，适应多种现场应用环境；

2、双重防撞保护功能

Z轴上装有防撞机械电子传感器、软件ZSTOP防撞保护功能，双重保护；

3、分析功能丰富

3D：表面粗糙度、平整度、孔洞体积、几何曲面、纹理方向、PSD等分析；

2D：剖面粗糙度、几何轮廓测量、频率、孔洞体积、Abbott参数等分析。

应用场景

1、镭射槽

测量晶圆上激光镭射槽的深度：半导体后道制造中，在将晶圆分割成一片片的小芯片前，需要对晶圆进行横纵方向的切割，为确保减少切割引发的崩边损失，会先采用激光切割机在晶圆表面烧蚀出U型或W型的引导槽，在工艺上需要对引导槽的槽型深宽尺寸进行检测。

2、光伏

在太阳能电池制作工程中，栅线的高宽比决定了电池板的遮光损耗及导电能力，直接影响着太阳能电池的性能。共聚焦显微镜可以对栅线进行快速检测。此外，太阳能电池制作过程中，制绒作为关键核心工艺，金字塔结构的质量影像减反射焰光效果，是光电转换效率的重要决定因素。共聚焦显微镜具有纳米级别的纵向分辨能力，能够对电池板绒面这种表面反射率低且形貌复杂的样品进行三维形貌重建。

3、其他

部分技术指标