最高温度： 1200℃
控温精度： ±1℃
最大功率： 3.2KW
升温速度（达到最高温）： 1200℃
加热方式： 国产程序控温系统50段程序控温
内部尺寸： 340x580x555mm
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产品用途：
产品专业性：
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。
产品组成：
PECVD系统配置：
1.1200度开启式双温区真空管式炉
2.等离子射频电源
3.多路质量流量控制系统
4.真空系统（可选配中真空或高真空）
产品特点：
生长温度低；沉积速率快；成膜质量好，适用范围广，设备简单。
保修期: 1年
是否可延长保修期: 否
现场技术咨询: 无
免费培训: 参考合同条款
免费仪器保养: 参考合同条款
保内维修承诺: 参考合同条款
报修承诺: 参考合同条款
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