台式等离子蚀刻机/灰化系统，适用于多种多样的样品材料和工艺气体。
Plasma Prep III是Plasma Prep系列产品的*新成员。该系统加入了固态技术，包括一体式真空计。该系统采用低成本设计，比如只设单一气体进口。添加选配的工艺控制模块可以扩展系统的功能，实现多种气体*混合，并且当工艺完成时，可以自动关闭系统。
典型应用领域：
? 电子显微观察样品制备
? 替代湿法化学蚀刻
? 去除光阻残留物
? 去除有机污染物
? 孔眼清洗
? 石棉分析
? 失效分析
系统规格：
? 13.56 MHz射频等离子体(RF plasma)
? 桶式设计反应室
? 功率可调节，从1到100瓦
? 一体式真空计
? 尺寸：12″宽×15″深× 10.5″高
（31 cm宽×38 cm深×27 cm高）
? 反应室尺寸：4″直径×6″深
? 获得CE认证，符合RoHS
系统包括：
? Plasma Prep III
? 派热克斯玻璃或石英反应室
? 真空软管（NW 16）
? 电线
场所要求：
? 工艺气体：5磅/平方英寸（表压）
? 真空泵
? 电力：100 V to 240 V, 50/60 Hz
