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· 紧凑设计，占地空间小
· 多可以安装５个沉积源
· 样品尺寸１～３英寸
· 双屏蔽设计防止污染
· 具有基片加热控制机制
· 便于维护和清洁
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· 有机物和金属可以在同一真空室内沉积，并没有污染
· 可以实现有机物和金属材料共蒸镀
· 可以实现多四种不同有机物共蒸镀
· 标准状况下，送样室可以防止共5片基片和掩模板
· 配有加热预处理室 |
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· 一个有机物专用沉积室
· 一个有机物与金属可共用的沉积室 |
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· 利用三轴机械臂转移这模板和式样
· 中转室可选配基体托真空密封机制
· 可以实现多4种不同有机物共沉积
· 8种不同有机物可以在同一沉积室里蒸镀
· 设有两个有机沉积室，可以安置16种有机材料沉积源
· 预处理室配有基体等离子清洁装置
· 标准状况下，送样室可以放置共6片基片和掩模板 |
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