电阻加热蒸发源及控制器研制

成果名称

电阻加热蒸发源及控制器

单位名称

中国科学院物理研究所

联系人

郇庆

联系邮箱

qhuan_uci@yahoo.com

成果成熟度

□正在研发  □已有样机  □通过小试  □通过中试  √可以量产

合作方式

√技术转让   √技术入股   □合作开发   √其他

成果简介： 

    电阻加热坩埚的方式,对材料进行热蒸发。该部件采用超高真空兼容设计(CF35 法兰), 具有水冷和手动挡板功能。其水冷采用特殊设计结构,具有水冷效率高、不需要区分进水/ 出水口的特点。专利设计的坩埚结构,可以在不破坏加热钨丝的情况下更换蒸发材料。目前 该设备已在国内外多家单位进行了尝试性推广,包括中科院物理所、清华大学、北京大学、 南京大学、华东理工大学、法国 CEA、美国加州大学 Irvine 分校、美国 LBNL,效果良好。 其主要技术指标为:
       安装法兰:  CF35
       超高真空兼容性:  是 – 可烘烤至 200℃
       腔内直径:  34mm
       腔内长度:  110mm~500mm 可定制
       源数量:  1
       冷却方式:  水冷
       坩埚材料:  99.8%三氧化二铝
       工作温度:  250℃~1200℃       

       温度测量:  有    K型热电偶
     所配套控制器,具有 PID 控制和多段可编程功能。输出功率可定制,控温精度高。有上 位机软件,界面友好、使用方便。主要技术指标为:
       最大输出功率: 576W(36V/16A)--可定制
       加热方式: 交流
       控温表头: 多种控温表头可选
       温度传感器: K 型热电偶(C 型热电偶可定制)

应用前景：
     主要用于分子束外延系统以及其他超高真空设备中的有机材料及低温无机材料的热蒸    发沉积。应用范围广,每年国内市场需求在数百套以上。

知识产权及项目获奖情况：
     发明专利:201410538769.9