进口仪器占比71%，Picosun、Beneq最受欢迎—全国共享ALD盘点

原子层沉积（ALD）是一种基于气态前驱体在沉积表面发生化学吸附的纳米薄膜沉积技术，通过自限制性的前驱体交替饱和反应获得厚度、组分、形貌及结构在纳米尺度上高度可控的薄膜。该方法对基材不设限，尤其适用于具有高深宽比或复杂三维结构的基材。采用ALD制备的薄膜具有高致密性（无针孔）、高保形性及大面积均匀性等优异性能，这对薄膜的使用具有重要的实际意义。

随着微电子行业的发展,集成度不断提高、器件尺寸持续减小,使得许多传统微电子材料和科技面临巨大挑战,然而原子层沉积(ALD)技术作为一种优异的镀膜技术,因其沉淀的薄膜纯度高、均匀性及保行性好,还能十分精确地控制薄膜的厚度与成分,仍然备受关注并被广泛应用于半导体、光学、光电子、太阳能等诸多领域。

但一直以来，原子层沉积设备在科研院所等研究单位的分布情况缺乏调查。不过，中央及各级政府在近几年来制订颁布了关于科学仪器、科研数据等科技资源的共享与平台建设文件。2021年1月22日，科技部和财政部联合发布《科技部 财政部关于开展2021年度国家科技基础条件资源调查工作的通知（国科发基〔2020〕342号）》，全国众多高校和科研院所将各种科学仪器上传共享。其中，对原子层沉积设备的统计分析或可一定程度反映科研用原子层沉积设备的市场信息。（注：本文搜集信息来源于重大科研基础设施和大型科研仪器国家网络管理平台，不完全统计分析仅供读者参考）。

不同地区（省/市）原子层沉积分布情况

北京各高校及研究所原子层沉积数量分布情况

据统计，网络管理平台原子层沉积的总数量为127台，涉及20省（直辖市/自治区）。其中，北京、江苏、上海、广东等地区共享原子层沉积设备数量最多，分别为25台、22台、13台和12台。北京涉及13所高校及研究院所，北京大学、清华大学和中科院微电子所的共享原子层沉积数量最多。

不同品牌原子层沉积设备数量分布

从不同品牌原子层沉积设备数量分布来看，Picosun占比最高达28%，其次为Beneq和Ultratech/Cambridge Nanotech分别占比16%和14%，嘉兴科民以10%的份额排第四。从数据来看，前三名在原子层沉积市场中份额占到近58%，只有第四名嘉兴科民为国产品牌。不过值得注意的是，2018年9月28日，由中车四方所公司与中车资本、国华基金共同组建的青岛四方思锐智能技术有限公司（简称思锐智能公司）与芬兰倍耐克（BENEQ）公司股东在赫尔辛基正式签署具有约束力的法律条款，顺利完成项目收购交割事宜，思锐智能公司收购芬兰倍耐克公司100%股权。目前Beneq品牌已成为青岛四方思锐智能技术有限公司旗下品牌。

原子层沉积设备产地分布

从原子层沉积设备的产地分布可以看出，进口设备比例高达71%，其中芬兰的原子层沉积最受科研用户青睐，占比达44%，国产原子层沉积占仅29%（含中国台湾）。统计结果表明，中国品牌包括了嘉兴科民、英作纳米、迈纳德微纳技术等厂商。

本次刻蚀设备盘点中，涉及品牌有Picosun、Beneq、Cambridge Nanotech、嘉兴科民、英作纳米、迈纳德微纳技术、Oxford、Angstrom、Arradiance、SENTECH、矽碁科技、SVT、PVA、南京大学科技实业、新锐博纳米、重庆诺图科技、沈阳科仪、Lesker、NCD、武汉康银、SYSKEY、北京正通远恒等。【查看专场 】

其中，各品牌比较受欢迎的产品型号有：

原子层沉积系统

这款产品广泛应用于：半导体、纳米材料、钠米科技、薄膜材料、薄膜沉积以及航空航天领域。PICOSUN公司是一个国际化的设备制造商，在全球有销售和服务机构，开发和制造原子层沉积反应器用于微米和纳米技术应用。PICOSUN为客户提供用户友好，可靠及多产的ALD工艺工具，提供从研发到生产的工业放大。PICOSUN基地在芬兰的espoo，美国总部在Detroit。SUNALE型ALD工艺工具被用于欧州、美国及亚洲前沿的科学机构、公司。

台式原子层沉积系统

美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统，在小巧的机身（78 x56 x28 cm）中集成了原子层沉积所需的所有功能，可最多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计， 使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现在 8英寸基体上膜厚的不均匀性小于1%，而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖，可实现对高达1500：1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。