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核心参数
产地类别： 进口
衬底尺寸： 最大8英寸/200 mm基片沉积（4
工艺温度： 300℃ 铝合金热壁，对流式温度控制
前驱体数： 1/2/4/8
重量： N/A
尺寸(W x H x D)： 78 x56 x28 cm
均匀性： 99.9%
台式三维原子层沉积系统ALD
原子层沉积（Atomic layer deposition, ALD）是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器，化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法，是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此，它是一种真正的纳米技术，以控制方式实现纳米的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性，因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。
| 美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统，在小巧的机身（78 x56 x28 cm）中集成了原子层沉积所需的所有功能，可多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计， 使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现在 8英寸基体上膜厚的不均匀性小于1%，而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖，可实现对高达1500：1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。 |
GEMStar XT 产品特点： ■ 300℃ 铝合金热壁，对流式温度控制 ■ 175℃ 温控150ml前驱体瓶，200℃ 控输运支管 ■ 可容纳多片4，6，8英寸样品同时沉积 ■ 可容纳1.25英寸/32mm厚度的基体 ■ 标准CF-40接口 ■ 可安装原位测量或粉末沉积模块等选件 ■ 等离子体辅助ALD插件 ■ 多种配件可供选择 | GEMStar XT 产品型号： GEMStar -4 XT： ■ 大4英寸/100 mm基片沉积 ■ 单路前驱体输运支管， 4路前驱体瓶接口 ■ 不可升为等离子体增强ALD GEMStar -6/8 XT： ■ 大6英寸(150mm)/8英寸(200mm)基片沉积 ■ 双路前驱体输运支管， 8路前驱体瓶和CF-40接口 ■ 可升为等离子体增强ALD |
| GEMStar -8 XT-P： ■ 大8英寸/200mm基片沉积 ■ 双路前驱体输运支管， 8路前驱体瓶和CF-40接口 ■ 装备高性能ICP等离子发生器 13.56 MHz 的等离子源非常紧凑，只需风冷，高运行功率达300W。 ■ 标配３组气流质量控制计（MFC）控制的等离子气源线，和一条MFC控制的运载气体线，使难以沉积的氧化物、氮化物、金属也可以实现均匀沉积。 |
| GEMStar NanoCUBE： * 大100 mm 立方体样品 沉积 * 单路前驱体输运支管， 2路前驱体瓶接口 * 主要用于3D多孔材料，以及厚样品的沉积 |
丰富配件：
多样品托盘： * 多样品夹具，样品尺寸（8", 6", 4"）向下兼容。 * 多基片夹具，多同时容纳9片基片。
| 温控热托盘： * 可加热样品托盘，高温度500℃，可实现热盘-热壁复合加热方式。
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粉末沉积盘：
| 臭氧发生器：
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真空进样器（Load Lock）
| 晶振测厚仪
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前驱体瓶：
| 前驱体加热套：
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粉末旋转沉积罐模块： 配合热壁加热方式，进一步实现对微纳粉末样品全保型薄膜均匀沉积包覆。
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手套箱接口： 可从侧面或背面接入手套箱，与从底部接入手套箱不同，不占用手套箱空间。由于主机在手套箱侧面，反应过程中不对手套箱有加热效应，不影响手套箱内温度。 | |||
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应用案例
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应用领域
国内外用户
已发表文献
1、 Loïc Assaud et al. Systematic increase of electrocatalytic turnover over nanoporous Pt surfaces Prepared by atomic layer deposition. J. Mater. Chem. A (2015) DOI: 10.1039/c5ta00205b
2、 Xiangyi Luo et al. Pd nanoparticles on ZnO-passivated porous carbon by atomic layer deposition: an effective electrochemical catalyst for Li-O2 battery. Nanotechnology(2015) 26, 164003. DOI:10.1088/0957-4484/26/16/164003
3、 HengweiWang, et al. Precisely-controlled synthesis of Au@Pd core–shell bimetallic catalyst via atomic layer deposition for selective oxidation of benzyl alcohol. Journal of Catalysis (2015) 324, 59–68. DOI: 10.1016/j.jcat.2015.01.019
4、 Sean W. Smith, et al. Improved oxidation resistance of organic/inorganic composite atomic layer deposition coated cellulose nanocrystal aerogels. J. Vac. Sci. Technol. A (2014) 4, 32 DOI: 10.1116/1.4882239
5、 Fatemeh Sadat MinayeHashemi et al. A New Resist for Area Selective Atomic and Molecular Layer Deposition on Metal−Dielectric Patterns. J. Phys. Chem. C (2014), 118, 10957−10962. DOI: 10.1021/jp502669f
6、 Jeffrey B. Chou, et.al Enabling Ideal Selective Solar Absorption with 2D Metallic Dielectric Photonic Crystals. Adv. Mater. (2014), DOI: 10.1002/adma.201403302.
7、 Jin Xie, et al. Site-Selective Deposition of Twinned Platinum Nanoparticles on TiSi2 Nanonets by Atomic Layer Deposition and Their Oxygen Reduction Activities. ACS Nano (2013), 7, 6337–6345. DOI: 10.1021/nn402385f
8、 Pengcheng Dai, et al. Solar Hydrogen Generation by Silicon Nanowires Modified with Platinum Nanoparticle Catalysts by Atomic Layer Deposition. Angew. Chem. Int. Ed. (2013), 52, 1 –6. DOI: 10.1002/anie.201303813
9、 Joseph Larkin et al. Slow DNA Transport through Nanoporesin Hafnium Oxide Membranes. ACS Nano (2013), 11, 10121–10128. DOI: 10.1021/nn404326f
10、 Thomas M et al. Extended lifetime MCP-PMTs: Characterization and lifetime measurements of ALD coated microchannel plates, in a sealed photomultiplier tube Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A (2013) 732, 388–391. DOI: 10.1016/j.nima.2013.07.023
11、 Kevin J. Maloney et al. Microlattices as architected thin films: Analysis of mechanical properties and high strain elastic recovery. APL Mater. 1, 022106 (2013) DOI: 10.1063/1.4818168
12、 Sean W. Smith et al. Improved Temperature Stability of Atomic Layer Deposition Coated Cellulose Nanocrystal Aerogels. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. (2012) DOI: 10.1557/opl.2012.
ARRADIANCE原子层沉积GEMStar的工作原理介绍
原子层沉积GEMStar的使用方法?
ARRADIANCEGEMStar多少钱一台?
原子层沉积GEMStar可以检测什么？
原子层沉积GEMStar使用的注意事项？
ARRADIANCEGEMStar的说明书有吗？
ARRADIANCE原子层沉积GEMStar的操作规程有吗？
ARRADIANCE原子层沉积GEMStar报价含票含运吗？
ARRADIANCEGEMStar有现货吗？
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利用原子层沉积ALD制备全固态电池界面层材料
全固态电池由于其具有高能量密度和高安全性能，被认为是具有潜力的下一代电池体系。然而，全固态电池仍有许多挑战亟待解决。其中界面问题（包括界面不匹配、界面副反应和界面空间电荷效应）是影响全固态电池性能的主要因素之一。有效地解决界面问题是攻克全固态电池难关的重中之重。界面修饰及改性是被广泛报道改善界面问题的重要途径。其中，制备界面层材料的技术及界面层材料的性质将是界面层稳定性的决定因素。ALD/MLD技术有望在固态电池界面修饰及改性上扮演重要的角色，包括界面改性材料的制备(图4A)，固态电解质的制备(图4B)，ALD界面材料用于阻隔电与固态电解质副反应(图4C)，改善固态电解质与金属锂的润湿性(图4D)，保护金属负(图4E)以及薄膜/三维固态电池的制备(图4F)等。ALD/MLD有望解决全固态电池的界面问题，满足人们对于高安全性以及高能量密度电池的需求，成为下一代电池的有力竞争者。孙教授团队对近几年ALD/MLD技术在固态电池中的应用作以归纳、总结与分析,并对ALD/MLD在固态电池中的应用作以展望相关工作发表在2018年的Joule上(DOI: 10.1016/j.joule.2018.11.012)。
能源/新能源
2020/03/02
利用原子层沉积ALD技术制备新型锂离子电池正材料
传统液态锂电池正材料晶石型LiNi0.5Mn1.5O4 (LNMO)，在电池循环过程中其表面和近表面会发生许多副反应以及不可逆的相变，大的影响电池的循环容量和稳定性。为了解决这一问题，孙学良院士课题组使用美国Arradiance公司生产的型号为GemStar-8 的台式ALD沉积系统，设计了新型多位点Ti掺杂的锂离子电池正材料，将无定形TiO2包覆在晶石型LNMO表面并热处理，实现了Ti元素在晶石结构表面和内部的多位点掺杂，其中表面的Ti部分进入晶石结构四面体配位的位点，其余的Ti替代八面体配位的过渡金属，这种多位点掺杂效应对材料的电化学性能起到了决定性的作用，相比于原始的LNMO，掺杂后的材料表现出了更低的表面阻抗，这是由于四面体配位的Ti能够减缓过渡金属迁移到八面体空位上，保证了锂离子的快速传导。相关工作发表在2017年的Advanced Materials上 (DOl: 10.1002/adma.201703764)。
能源/新能源
2020/03/02
企业名称
QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110000410217679
成立日期
2004-10-10
注册资本
20
经营范围
磁性物体测量系统、物理性物体测量系统、超导量子干涉装置的探头以及有关电子产品的批发、佣金代理(拍卖除外)、进出口及售后服务、咨询服务(涉及配额许可证管理、专项管理规定的商品按照国家有关规定办理)。(非货币出资4万美元。依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动。)
QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司
公司地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号恒通商务园B22座 501 室
客服电话
公司名称： QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司
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