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GVC-1000全自动离子溅射仪宣传页
2024-04-01 15:58
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GVC-2000P磁控离子溅射仪采用平面磁控溅射靶头进行靶材溅射，以确保工作过程样品不会发生热损伤；采用ARM作为处理器，全自主知识产权，扩展性好，可选配。
GVC-5000T镀金镀碳一体机(高真空多功能镀膜仪)双组件设计、防污挡板设计、一键切换工作模式、镀膜效率高、颗粒度小、可镀所有金属膜和ITO导电膜。
高真空热蒸发镀碳仪全自主支持产权，效率更高、颗粒更细，膜厚更均匀。适用于EDS样品制备；EBSD样品制备；MLA系统样品制备；其它需要制备碳膜的领域。
高真空磁控离子溅射仪集成化了 LCD 触摸显示屏操作界面，有利于实际操作。外接机械泵（随附）可完成迅速真空泵，进而为大部分规范SEM剖析给予充足的涂层晶体规格。
公司名称： 北京格微仪器有限公司
公司地址： 北京市朝阳区北辰西路69号峻峰华亭D座1209室 联系人： 范斌 邮编： 100029 联系电话： 400-860-5168转6180
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