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MC方案：Si膜表征
2020/03/09 14:48
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方案摘要：
产品配置单：
美国Laurell匀胶机WS-650-23NPPB
型号： WS-650-23NPPB
产地： 美国
品牌： 劳瑞恩
¥5万 - 10万
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进口纳米狭缝涂布机
型号： nRad
产地： 美国
品牌：
面议
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扫描型光学膜厚仪 FR-Scanner
型号： FR-Scanner
产地： 希腊
品牌：
¥20万 - 50万
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方案详情：
显示了硅膜在900-1700nm范围内的反射光谱。膜面积为300x900μm2。在这种情况下，考虑的堆叠是空气/Si（100）/SiO2/空气，即超薄SiO2层上的悬浮Si膜，由支撑Si晶片的背面蚀刻制成。
显示了用于拟合的光谱区域（930-1200 nm）中的放大。计算得到的薄膜厚度为5.25μm。
显示了SOI晶片的实验和拟合反射光谱。空腔为300x900μm2。Si覆盖层和SiO2层的计算厚度分别为5.04μm和0.48μm。
WLRS方法能够测量从几十纳米到数微米（取决于fr的基本配置）的大厚度范围内的硅膜厚度。 KOH蚀刻产生的表面蚀刻对于WLRS方法来说太高了。如果是背面蚀刻或正面蚀刻，则应使用Si空腔/膜双面晶圆
FR的工具基于白光反射光谱(Reports) 。
准确同步的厚度测量及薄膜的折射率
-一个广泛的多样化的应用范围广泛的光电
特性的工具和整体解决方案，如:
半导体、有机电子、聚合物、涂料和涂料、
光伏、生物传感、化学传感...
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