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MC方案:Si膜表征

2020/03/09 14:48

阅读:143

分享:
应用领域:
电子/电气
发布时间:
2020/03/09
检测样品:
电子元器件产品
检测项目:
Si膜表征
浏览次数:
143
下载次数:
参考标准:
Si膜表征、反射光谱拟合

方案摘要:

样品悬浮在Si晶片上的Si膜上,中间层为SiO2。硅吸收在可见光谱范围内,对于厚膜测量,应在近红外范围内进行。使用FR基本型工具在900-1700nm红外光谱范围内进行测量。本次应用中使用的反射探头的光学反射直径约为500x500μm2。

产品配置单:

前处理设备

美国Laurell匀胶机WS-650-23NPPB

型号: WS-650-23NPPB

产地: 美国

品牌: 劳瑞恩

¥5万 - 10万

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进口纳米狭缝涂布机

型号: nRad

产地: 美国

品牌:

面议

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分析仪器

扫描型光学膜厚仪 FR-Scanner

型号: FR-Scanner

产地: 希腊

品牌:

¥20万 - 50万

参考报价

联系电话

方案详情:

显示了硅膜在900-1700nm范围内的反射光谱。膜面积为300x900μm2。在这种情况下,考虑的堆叠是空气/Si(100)/SiO2/空气,即超薄SiO2层上的悬浮Si膜,由支撑Si晶片的背面蚀刻制成。  

显示了用于拟合的光谱区域(930-1200 nm)中的放大。计算得到的薄膜厚度为5.25μm。

显示了SOI晶片的实验和拟合反射光谱。空腔为300x900μm2。Si覆盖层和SiO2层的计算厚度分别为5.04μm和0.48μm。

WLRS方法能够测量从几十纳米到数微米(取决于fr的基本配置)的大厚度范围内的硅膜厚度。            KOH蚀刻产生的表面蚀刻对于WLRS方法来说太高了。如果是背面蚀刻或正面蚀刻,则应使用Si空腔/膜双面晶圆

FR-Scanner.jpg

FR的工具基于白光反射光谱(Reports) 。
准确同步的厚度测量及薄膜的折射率
-一个广泛的多样化的应用范围广泛的光电
特性的工具和整体解决方案,如:
半导体、有机电子、聚合物、涂料和涂料、
光伏、生物传感、化学传感...


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型号:WS-650-23NPPB

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型号:nRad

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桌面微型紫外光刻机

型号:GK100

面议

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