反射模式微芯片

BATOP激光芯片1064nm(Microchip)

品牌：   BATOP

型号：   MC

 BATOP GmbH成立于2003年，是一家隶属于德国耶拿大学的私人创新型公司。BATOP从事的专业领域包括：低温分子束外延技术，介质溅射镀膜，晶圆加工和芯片安装技术。在过去几年里， BATOP 已成为一个用于被动锁模激光器的可饱和吸收体的世界领先的供应商。可饱和吸收产品集合了各式各样的不同的器件，从可饱和吸收镜(SAM™)，到可饱和输出镜(SOC)和用于透过应用的可饱和吸收体(SA)。迄今为止，可饱和吸收产品已经覆盖了800nm到2.6μm的常用激光波长范围。另一个产品系列是用于太赫兹发射和探测的太赫兹光电导天线(PCA)。BATOP不仅提供单带隙天线，还包括整合了微透镜的高能大狭缝交叉天线阵列和整套的太赫兹光谱仪。 太赫兹光电导天线的激发波长为800nm到1550nm之间。BATOP借助强大的研发能力来不断提高自己的产品， 我们始终和客户在一起，最好的满足他们的需求。

产品介绍

MC – 反射模式微芯片

• The Nd:YVO₄ laser crystal is bonded with a saturable absorber mirror (SAM).

• The laser output beam is in the reverse direction of the pump beam and must be separated from pump light by using a dichroitic mirror.

• The laser output is linear polarized with the polarization direction perpendicular to the groove in the copper heat sink.

MCT – 传输模式微芯片

• The Nd:YVO₄ laser crystal is bonded with a saturable output coupler (SOC).

• The laser output beam is in the same direction as the pump beam.

• The laser output is linear polarized.

反射模式微芯片

品牌：   BATOP

型号：   MC-1064-100ps

 BATOP GmbH成立于2003年，是一家隶属于德国耶拿大学的私人创新型公司。BATOP从事的专业领域包括：低温分子束外延技术，介质溅射镀膜，晶圆加工和芯片安装技术。在过去几年里， BATOP 已成为一个用于被动锁模激光器的可饱和吸收体的世界领先的供应商。可饱和吸收产品集合了各式各样的不同的器件，从可饱和吸收镜(SAM™)，到可饱和输出镜(SOC)和用于透过应用的可饱和吸收体(SA)。迄今为止，可饱和吸收产品已经覆盖了800nm到2.6μm的常用激光波长范围。另一个产品系列是用于太赫兹发射和探测的太赫兹光电导天线(PCA)。BATOP不仅提供单带隙天线，还包括整合了微透镜的高能大狭缝交叉天线阵列和整套的太赫兹光谱仪。 太赫兹光电导天线的激发波长为800nm到1550nm之间。BATOP借助强大的研发能力来不断提高自己的产品， 我们始终和客户在一起，最好的满足他们的需求。

产品介绍

MC – 反射模式微芯片(Microchip in reflection mode)

• Nd:YVO₄ laser crystal is bonded with a saturable absorber mirror (SAM).

• The laser output beam is in the reverse direction of the pump beam and must be separated from pump light by using a dichroitic mirror.

• The laser output is linear polarized with the polarization direction perpendicular to the groove in the copper heat sink.

微芯片参数：

MC-1064-100ps

Optical Pump Parameters

Lasing performance with 40μm pump spot size at 25°C

The average output power P and the repetition frequency fR are a function of the optical pump power.These dependencies are nearly linear above the laser threshold. The jitter of the repetition frequencydecreases with increasing pump power to about 2 %, whereas the pulse energy EP remains constant?

Dependency of the average output power P on the pump power at 808 nm?

Dependency of the repetition rate frep on the pump power at 808 nm

Pulse duration tP

Pulse spectrum?

Dependency of the relative frequency jitter on the repetition rate fR

3.