2017年5月19-20日清华大学摩擦学国家重点实验室 表面分析技术X射线光电子能谱应用研讨会暨培训班成功举办

2017年5月19-20日，“表面分析技术X射线光电子能谱仪应用研讨会暨培训班”在清华大学成功举办。此次活动由清华大学摩擦学国家重点实验室主办，ULVAC-PHI与PHI （China）高德英特公司共同协办。来自清华大学的师生及国内各高校相关专业的多名老师与专家参与了此次活动。

在第一天的研讨会中，来自ULVAC-PHI原厂科学家张熏匀博士作为特邀嘉宾，与来自PHI（China）的执行总监叶上远先生，分别为参会人员介绍了X射线光电子能谱仪（XPS）、扫描式聚焦X射线光电子能谱分析仪(PHI Quantera-II)的原理、功能及应用范围，分享了PHI在微区方面（尤其是SPS在微区定位中）的应用與及使用不同濺射源的深度分析应用（包括Ar、C60和GCIB離子源等），并带来了关于XPS表面分析新技术Hard X-ray (HAXPES)和XPS配合UPS/IPES的新应用介绍以及关于表面分析新技术MSMS的简介及应用。两位专业人士带来的分享让参会者更深刻地了解到在研究中如何更有效、更高效地利用XPS。在接下来的学术讨论环节，互动主体主要围绕XPS在研究领域中的应用展开。讨论结束后，主办方带领参会者参观了清华大学摩擦学国家重点实验室，并就现场带样测试的Demo进行了Live Demo的实时分析、演示。

第二天的活动则以培训为主。叶上远先生为参会者讲解了光电子能谱仪数据分析，包括全谱/窄谱、峰校正、定性/定量分析、灵敏因子、分峰拟合、峰形、峰背景概念等，并结合第一天下午的Live Demo进行了数据分析的讲解，包括分峰拟合、深度分析、线扫描、面扫描影像数据处理方法等内容。

在针对现场带样测试的答疑和讨论环节，叶上远先生与大家分享了XPS形貌分析以及样品观察与测量的各种技巧，并为携带样品到现场测试的用户解答了疑难问题。在双方热烈的讨论和交流中，活动逐渐走向尾声。

ULVAC-PHI 亚洲区销售经理 Mr. Takuji Shibasaki 柴崎琢自 致词

ULVAC-PHI 应用科学家张熏匀博士 在做演讲

与会者认真聆听报告并积极参与

多名與會者进行答疑与现场讨论