导致超纯水机性能下降的因素有哪些？

纯水机是一种常用的实验室通用设备，按照出水品质可以分为反渗透水、去离子水、超纯水，目前都有比较成熟的纯水产品，应用广泛。在制药行业中，实验室用水要求较高，实验室配备的分析仪器，如HPLC、离子色谱、液质用水需要18.2MΩ.cm，TOC较低的超纯水，需达到GB/T33087-2016的超纯水标准。和泰系列纯水/超纯水系统完全符合《中国药典》纯化水标准、GB/T6682-2008、GB/T33087-2016、ASTM、CAP、CLSI、EP和USP制定的Ⅰ级水质标准， 完全满足制药行业实验室的用水需求，已经越来越多的运用到制药行业中，省时省力，水质稳定，大大提高了工作效率。

用PES聚醚砜，截留分子量达5000道尔顿的原装进口超滤膜组件，可以实现去除内毒素达到0.001Eu/ml的指标，远超药典规定的指标(<0.25Eu/ml)，完全满足精密的细胞培养和IVF等实验对内毒素的要求。

1.由于薄膜电导检测技术和回路设计，测量准确性和稳定度大大提高。 2.具有实时在线测量模块 3.利用最先进WiFi科技，保证了数据的传输便捷及安全性。

纯水系统制备的纯水广泛应用于电子工业生产中，一些电子行业中的设备清洗都需要用到纯水，比如电解电容器、显像管、晶体管、集成电路等的生产。为什么电子工业生产中要用到纯水来清洗材料呢？ 众所周知，没有经过纯水系统制备过的原水中含有很多的杂质，用这样的原水清洗材料的话，会造成材料的二次污染，严重影响生产工艺和质量。 比如在电解电容器的生产中，因为一般的水源中含有氯离子，使用这种水清洗材料，会导致生产出来的电解电容器产生漏电的现象； 而对于显像管的生产，如果使用含有细菌、细小颗粒、有机物等水清洗显像管所需要的材料，会导致荧光层强度和玻壳附着力的降低，更有甚者，会出现漏光点、气泡等次品或废品的产生，一般说来显像管的生产需要十二个步骤，而其中需要用到纯水系统制备的纯水清洗材料的就有五个步骤：洗膜、清洗玻壳、沉淀、清洗管颈和湿润，因此，一旦选择不适当的水作为清洗材料的水源，后果可想而知； 在集成电路的生产中，水中若存在颗粒、有机物等物质，在生产中就会附着在硅片的表面，从而引起电路短路或者性能变差等； 毋庸置疑，纯水系统制备的纯水在电子工业中的作用日渐重要，纯水的水质也成为影响电子产品质量的重要因素，选择符合要求的纯水系统成为电子工业中不争事实。 本文由和泰小编编写，更多纯水系统的内容请关注上海和泰仪器有限公司官网：http://www.high-tech.cn