2014-05-29 11:09
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EM-KLEEN电镜腔室清洁等离子体表面处理仪
型号: EM-KLEEN
产地:
品牌: PIE(派)
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CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)
型号: CCU-010 HV
产地:
品牌: Safematic
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AUTOSAMDRI-931触摸屏全自动临界点干燥仪
型号: AUTOSAMDRI-931
产地:
品牌: Tousimis
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基于改装SEM纳米图形电子束曝光机NPGS V9.2
型号: NPGS V9.2
产地:
品牌: JC Nabity
¥ 30万 - 50万
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相关资料
美国Tousimis临界点干燥仪(CPD)产品分为非洁净室版本和洁净室版本两大类,前者常用于电镜制样,后者多用于超净间内的材料研究用途。 洁净室版本共有9个型号:Autosamdri-815 Series B全自动临界点干燥仪可用于裸片和1”晶圆;Autosamdri-815B Series B全自动临界点干燥仪可用于4”晶圆;Automegasamdri-915B Series B全自动临界点干燥仪可用于6”晶圆;Autosamdri-931_1.25"、Autosamdri-931_2.50"、Autosamdri-931_3.40"多用途触摸屏全自动临界点干燥仪;Autosamdri-934触摸屏全自动C系列临界点干燥仪可用于4”晶圆;Automegasamdri-936、938触摸屏全自动C系列临界点干燥仪分别用于 6”和8”晶圆。 美国Tousimis CPD广泛用于含水生物样品,凝胶、3D打印等具有精细微纳结构的脆弱复杂样品,MEMS、MOF、碳纳米管、石墨烯、晶圆(最大样品8英寸,一次同时干燥5片)等材料类样品及EBL制程的临界点干燥。
美国Tousimis临界点干燥仪(CPD)产品分为非洁净室版本和洁净室版本两大类,前者常用于电镜制样,后者多用于超净间内的材料研究用途。 非洁净室版本共有7个型号:Samdri-PVT-3D手动临界点干燥仪;Samdri-795半自动临界点干燥仪;Autosamdri-815 Series A全自动临界点干燥仪;Autosamdri-815B Series A全自动临界点干燥仪;Autosamdri-931_1.25"、 Autosamdri-931_2.50"、Autosamdri-931_3.40"触摸屏数字控制全自动临界点干燥仪。 美国Tousimis CPD广泛用于含水生物样品,凝胶、3D打印等具有精细微纳结构的脆弱复杂样品,MEMS、MOF、碳纳米管、石墨烯、晶圆(最大样品8英寸,一次同时干燥5片)等材料类样品及EBL制程的临界点干燥。
瑞士Safematic镀膜仪分为低真空和高真空两个版本,型号分别是CCU-010 LV和CCU-010 HV;均采用插入式设计,通过更换和选用镀膜头就可轻松配置为磁控离子溅射、热蒸发镀碳或两者一体化镀膜设备;都标配FTM装置;CCU-010 HV标配内置分子泵和无油隔膜泵的高真空度系统;CCU-010 LV后期可升级为HV版本。 1. 溅射头:SP-010常规溅射头和SP-011高效溅射头。对于C、Fe(磁性)等“困难”靶材,推荐HV+SP-011。 2. 镀碳头:CT-010镀碳头,适合SEM、TEM和任何需高质量碳膜的应用场合。它具有欧洲专利的自动进给系统,可进行数十次镀膜而无需破真空更换碳源,一次真空下可控沉积几乎任何厚度的优质碳膜。 3. 辉光放电:GD-010模块装在CT-010镀碳头上,可对碳膜进行亲水化处理。亦可作为辉光放电仪,用于冷冻电镜载网亲水等处理。 4. 等离子刻蚀:ET-010模块可在镀膜前先对样品进行等离子清洁刻蚀处理,增加成膜附着力;亦可在镀膜后进行刻蚀处理,以便去除膜层或进一步清洁。 5. 远程控制软件:RC-010基于win的远程控制软件,用于手套箱等。
本文介绍了临界点干燥(CPD)技术的新应用案例:利用超临界CO2作为清洗步骤,用于在氧化硅(Si)基片上微加工的石墨烯场效应晶体管(GFETs),结果表明场效应迁移率增加,杂质掺杂减少。研究显示:通过CPD处理后,石墨烯转移过程和设备微加工后残留的聚合物显著减少。此外,CPD有效去除环境中的水分等吸附物,从而减少GFETs中不希望出现的P型掺杂现象。作者建议将CPD技术应用于基于二维材料的电子、光电和光子器件,以在洁净室微加工后和常温存储后恢复其本征特性。在实验研究中,作者使用了美国Tousimis出品的autosamdri-815型自动临界点干燥仪对GFETs 进行CPD处理,有效地清除GFETs表面的聚合物残留和吸附水分,从而显著改善其电传输特性;AFM和XPS等实验数据证明这是一种简单且环保的后处理解决方案。CPD工艺参数等详情,请阅读和参考该论文。