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安捷伦 ICP-MS 期刊 | 使用 ICP-MS/MS 无干扰测量富含钨的化妆品样品中的痕量汞

安捷伦发布时间:2019/04/01 11:54 点击: 加载中..

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为了便于客户更好的了解安捷伦 ICP-MS 产品及应用,我们特在安捷伦官方微信上开辟了“安家 ICP-MS 期刊“专栏,并不定期向您推荐 ICP-MS 期刊往期精选内容,以便安捷伦产品今后能够更好地服务于您,并在您的检测和科研的工作中助您实现成就。

本期推荐阅读内容

使用 ICP-MS/MS 无干扰测量

富含钨的化妆品样品中的痕量汞

(第 5-6 页)

许多汞  (Hg) 化合物有毒,会引起皮肤刺激、头痛、震颤、神经系统损伤和肾衰竭等不适或中毒症状。由于汞化合物极易透过皮肤被人体吸收,因此化妆品中 Hg 化合物的使用受到严格控制。例如,除非在特殊条件下(找不到其它可替代的安全有效防腐剂),否则美国食品药品监督管理局  (FDA) 不允许在化妆品里使用汞。

然而,Hg 化合物在护肤霜、肥皂和乳液中使用,可使其具有“抗衰老”或“美白”功效。某些不法商贩看中了其中的商机,会在化妆品中非法添加 Hg 化合物,以求产品的“显著”功效,从中获利。

可使用 ICP-MS 测定低浓度的汞元素,但存在一定的困难。汞具有较高的第一电离势 (10.44 eV),因此在等离子体中电离效果相对较差,从而导致灵敏度较低。此外,汞有七种天然存在的同位素,每一种同位素的丰度 (%) 都相对较低,这进一步降低了灵敏度。此外,一些化妆品中还含有大量钨 (W),这导致汞的所有同位素都受到 WO+ 和 WOH+ 的多原子干扰,使得汞的测定更加困难。配有碰撞反应池 (CRC) 的传统单四极杆 ICP-MS 并不能充分去除 WO+ 和 WOH+干扰,无法对汞进行准确的痕量测定。

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图 1. Agilent 8900 串联四极杆 ICP-MS

在本研究中发现,串联四极杆 ICP-MS (ICP-MS/MS) 在 MS/MS 模式、反应池气体为 O2 下具有出色的干扰去除能力,可成功去除 WO+ 和 WOH+ 对五种主要汞同位素的多原子干扰,从而对汞进行原位质量检测。

- 采用反应池气体为 O2  的 MS/MS 原位质量方法,在钨存在条件下的汞痕量测量准确一致

- 与传统的单四极杆 ICP-MS 相比,ICP-MS/MS 可将干扰降低至少两个数量级

- 8900 ICP-MS/MS 方法可轻易满足富含钨的化妆品样品中对痕量汞分析的要求

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图 2. 有/无钨基质的汞同位素证明采用 ICP-MS/MS 可完全去除基质中的钨元素干扰

表 1. 稀释 100 倍富含钨的化妆品样品测出的汞浓度,独立定量测定五种同位素 (μg/L)

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本期主要内容为:

第 2-4 页,使用安捷伦 GC-ICP-MS 系统分析气体和液化气体样品中的挥发性砷化物

第 5-6 页,使用 ICP-MS/MS 无干扰测量富含钨的化妆品样品中的痕量汞

第 8 页,自选网络研讨会;安捷伦 ICP-MS 出版物

访问 https://www.agilent.com/zh-cn/products/icp-ms,了解安捷伦 ICP-MS 产品。


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