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微流控芯片加工:EVG 610单面/双面光刻机

  • 型号 EVG 光刻机610系列
  • 产地 奥地利
  • 样本 暂无
  • 品牌EVG

核心参数

  • 检测物质芯片加工
  • 流道大小(1μm)1微米以上
  • 芯片类型线宽加工
  • 芯片材料有机衬底以及硅
  • 检出限1微米以上
  • 产地 进口

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  • 品牌性质经销商
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微流控芯片加工:EVG 610单面/双面光刻机 产品介绍 售后服务承诺 相关资料 用户评论

产品介绍

EVG610单面/双面光刻机

 

EVG-610.png 

 

一、 简介

 

EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及世界各地。

EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。

目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域。

EVG610是一款非常灵活的、适用于研发和小批量试产的对准系统,可处理zui200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺,例如:真空、软、硬接触和接近曝光;也支持其他特殊的应用,如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。EVG610系统中的工具更换非常简便快捷,每次更换都可在几分钟之内完成,而不需要专门的工程人员和培训,非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。

 

二、应用范围

EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统(MEMS)、硅片凸点、化合物半导体等领域,涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。

 

三、主要特点

支持背面对准光刻和键合对准工艺

自动的微米计控制曝光间距

自动契型补偿系统

优异的全局光强均匀度

免维护单独气浮工作台

zui小化的占地面积

Windows图形化用户界面


微流控芯片加工:EVG 610单面/双面光刻机信息由北京亚科晨旭科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于微流控芯片加工:EVG 610单面/双面光刻机报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。

注:对于医疗器械类产品,请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况。

售后服务承诺

免费上门安装:是

保修期:1年

是否可延长保修期:是

保内维修承诺:软件免费重装,硬件维修

报修承诺:24小时到达

免费仪器保养:2个月1次

免费培训:技术人员现场培训

现场技术咨询:有

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北京亚科晨旭科技有限公司

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