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详细介绍
MXG管式炉系列
设备用途
本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专用理想设备。
应用领域
半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业领域。
加温: 加热元件:电阻丝,环形加热
升温速率:20℃/min
测温: 测温元件:N型热电偶
控温: 温控仪表:数显仪表,智能化30段PID可编程控制。
控温精度:±1℃,超温报警
保温: 保温材料:多晶氧化铝纤维材料,保温效果好,热能损耗少。
充气正压:≤ 0.02MPa
可通气体:惰性气体和还原性气体等。
法兰(炉管两端配有不锈钢密封CF法兰,包括精密针阀、指针式真空压力表、软管接头,若有特殊需求,可选配以下法兰)
1、聚四氟乙烯法兰,用于有腐蚀环境。
2、水冷法兰,用于更好防止密封圈老化。
3、KF法兰,用于更好真空实验需求。
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