仪器种类: 管式炉
最高温度: 1200℃(<1hr)
控温精度: ±1℃
最大功率: 2KW
升温速度(达到最高温): 20℃/min
加热方式: 掺钼铁铬铝合金
内部尺寸: 50mm O.D x 44mm I.D x 450mm L
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OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩埚可炉管内移动(靠步进电机控制)的小型开启式管式炉。炉管直径为50mm,设备最高工作温度为1200℃。
设备特点:坩埚通过一步进电机控制炉管,按照设定程序移动,同时坩埚后端安装一热电偶(随坩埚仪器移动),可实时监测样品的温度,意味着可通过移动坩埚的位置,在炉体中准确找到实验所需要的温度,使得实验准确度更高,重复性更强。此款设备可用于多种实验,比如HPCVD(hybrid physical chemical deposition),快速热蒸发,也可用于水平布里奇曼(Bridgman)法来长晶体。
技术参数
高温炉部分 |
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温度控制系统 |
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真空密封 | |
坩埚移动机构&PLC控制 | |
最大加热速率和冷却速率 | 可通过移动样品到已预加热的炉体中来得到最大的加热速率,也可将样品迅速移除高温的炉体,来得到最大的降温速率 最大加热速率10℃/sec (150℃ - 250℃);7℃/sec (250℃ - 350℃);4℃/sec (350℃ - 500℃);3℃/sec (500℃ - 550℃);2℃/sec (550℃ - 650℃);1℃/sec (650℃ - 800℃);0.5℃/sec (800℃ - 1000℃);最大降温速率10℃/sec (950℃ - 900℃);7℃/sec (900℃ - 850℃);4℃/sec (850℃ - 750℃);2℃/sec (750℃ - 600℃);1.5℃/sec (600℃ - 500℃);1℃/sec (500℃ - 400℃);0.5℃/sec (400℃ - 300℃);
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可选配件 | |
尺寸 | |
质保 | 一年质保期,终生维护(不含加热元件、炉管和密封圈) |
质量认证 | |
注意事项 |
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应用 |
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