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NexION 300S ICP-MS测定半导体级硫酸中的杂质

  • 应用领域: 电子/电气/通讯/半导体
  • 检测样品: 暂无
  • 检测项目:暂无
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  • 发布时间:2013-07-17
  • 参考标准:
通常情况下,蚀刻液由硫酸和过氧化氢配制而成。由于是与其他化学物质一起使用的,任何金属杂质的引入都将会对IC器件的可靠性产生不利影响,因此需要使用的硫酸具有高纯度和高质量。由于具有快速测定各种工艺化学品中超痕量浓度待测元素的能力,电感耦合等离子体质谱仪已成为了质量控制不可缺少的分析工具。然而,在传统的等离子体条件下,往往存在氩离子与基质成分结合产生多原子干扰的情况。动态反应池使用四级杆质量过滤器建立动态带通,是消除目标元素干扰物的一种强有力的校正技术。使用非反应气体的碰撞池技术也被证明是一种减少特定多原子干扰的简单可行的方法。本应用报告证明了NexION 300 ICP-MS去除干扰,从而在使用高温等离子体的条件下通过一次分析就能够对H2SO4中全部痕量水平的杂质元素进行测定的能力。
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