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15 台电子束刻蚀 3I规则
 CIONE系列Mini 等离子/反应离子刻蚀机

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  • CIONE4,CIONE6,CIONE8
  • 暂无
参考报价 ¥10万 - 30万
QATM Qetch 1000(Kristall 680) 全自动电解抛光蚀刻机

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  • Qetch 1000(原德国ATM Kristall 680)
  • 暂无
参考报价 ¥10万 - 30万
实验级R2P纳米压印系统

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  • HoloPrinter
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参考报价 ¥50万 - 80万
Imprint Nano纳米压印

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  • YPL-NIL-SI400
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高分辨率纳米压印模板

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  • 石英/硅/聚合物模板
  • 暂无
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EBPG Plus 超高性能电子束光刻系统

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  • EBPG Plus
  • 暂无
参考报价 面议
ELPHY图形发生器

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  • ELPHY
  • 暂无
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CHIPSCANNER 高分辨率电子束曝光机

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  • CHIPSCANNER
  • 暂无
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PIONEER Two 电子束光刻机

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  • PIONEER Two
  • 暂无
参考报价 面议
eLINE Plus 多功能电子束光刻系统

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  • eLINE Plus
  • 暂无
参考报价 面议
Raith150 TWO 高分辨电子束光刻系统

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  • Raith150 TWO
  • 暂无
参考报价 面议
VOYAGER 高性能电子束曝光系统

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  • VOYAGER
  • 暂无
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基于改装SEM的扫描电子束曝光系统

基于改装SEM的扫描电子束曝光系统

  • NPGS(纳米图形发生系统)
  • 暂无
参考报价 ¥30万 - 50万
光刻胶

光刻胶

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分类小贴士

电子束曝光机是一种使用电子束对材料表面进行精密加工的设备。在电子束曝光机中,一束高速电子被发射出来,然后经过聚焦和控制系统,准确地照射到需要加工的材料表面上,使其受到束流能量的作用。通过控制电子束的聚焦和移动,可以在微米或纳米级别上进行加工,具有精度高、速度快、适用范围广等优点。 电子束曝光机被广泛应用于半导体、光学元件、MEMS、航空航天等领域的微型加工和制造。比如,它可以用于制作微型光学器件和光纤通信器件、制造微机电系统(MEMS)以及制造新型纳米材料等。同时,电子束曝光机还可以在半导体行业中,通过使用电子束光刻技术制造芯片,满足现代科技的需求。

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