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仪器信息网 3i讲堂 原子层沉积技术发展及应用
1 0 投诉 分享 27 2024-05-14
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原子层沉积技术发展及应用

所属会议:第三届半导体工艺及封装检测新技术网络会议
随着微电子行业的发展，集成度不断提高、器件尺寸持续缩小，使得许多传统微电子材料和科技面临巨大挑战。原子层沉积（ALD)技术作为一种优异的薄膜趁机技术，因其沉积的薄膜纯度高、均匀性及保型性好，能精确控制薄膜的厚度与成分，广泛应用于半导体、光学、光电子、太阳能等诸多领域。报告主要介绍原子层沉积技术的原理、应用及成果介绍，最后对ALD装备的创新发展进行了介绍及展望。

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屈芙蓉
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中国科学院微电子研究所
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