等离子清洗用于半导体晶元微电子封装离子机
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¥5万 - 10万

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达因特

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spa1800

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中国大陆

  • 白金
  • 第8年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

  

有多少种不同的等离子工艺:

真空等离子技术:

FPC等离子处理.jpg

  等离子体在封闭的真空中活生生,与常压条件下相比,每个单位体积中的微粒数较少,这样就增加了粒子自由程长度,并相对减少了碰撞过程,因此,等离子体能量削弱的倾向减弱,可以空间内更广泛的传播,要制造真空腔体,需要使用功能强大的气泵。

高压等离子技术:

  高压等离子体由特殊的气体放电管产生,这种等高子体对于表面处理来说并不重要。

电晕处理技术:

  电晕处理是一种使用高电压的物理工艺,主要用于薄膜处理,电晕预处理的缺点是,表面活动能力相对较低,而且处理之后的表面效果有时不够均匀,薄膜的反面也会被处理,有时这是工艺要求需要避免的,而且,经由电晕处理得到的表面张力无法维持长时间的稳定性,经过处理的产品往往只能存放在限的时间。

常压等离子处理技术:

  常压等离子是在大气压条件下产生的,也就是说,不需要使用真空腔体,采用直喷或旋转喷枪,首次实现在大气压条件下将非常有效,更重要的是安全无电势的等离子直接集成到制造工艺之中,常压等离子处理技术的成本低,性能好,因而作为真空等离子和电晕工艺的工艺替代和工艺提升,获得了广泛的应用。常压等离子技术的一大优势,在于其在线集成能力,作为一项工艺准则,这种技术能够顺利集成到现有的生产系统中。


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