特点：
· 易于安装
· 基于视窗结构的软件，很容易操作
· 先进的光学设计，以确保能发挥出好的系统性能
· 基于阵列设计的探测器系统，以确保快速测量
· 独特的光源设计，有着较好的光源强度稳定性
· 有四种方法来调整光的强度：
§ 通过电源的调节旋钮来调节电源输出的大小
§ 在光输出端口滤光槽内调整滤光片来调整
§ 调整光束大小
§ 通过TFProbe软件，在探测器里调整积分时间
· 可测量5层的薄膜厚度和折射率
· 在毫秒的时间内，可以获得反射率、传输率和吸收光谱等一些参数
· 能够用于实时或在线的厚度、折射率测量
· 系统配备大量的光学常数数据及数据库
· 对于每个被测薄膜样品，用户可以利用先进的软件功能选择使用NK数据库、也可以进行色散或者复合模型（EMA）测量分析；
· 可升级至MSP（显微分光光度计）系统，SRM成像系统，多通道分析系统，大点测量。
· 通过模式和特性结构直接测量。
· 提供的各种配件可用于特殊结构的测量，例如通过曲线表面进行纵长测量。
· 2D和3D的图形输出和友好的用户数据管理界面。
系统配置：
· 型号：SR100R
· 探测器： 2048像素的CCD线阵列
· 光源：高稳定性、长寿命的卤素灯
· 光传送方式：光纤
· 台架平台：特殊处理铝合金，能够很容易的调节样品重量，200mmx200mm的大小
· 软件： TFProbe 2.2版本的软件
· 通讯接口：USB的通讯接口与计算机相连
· 测量类型：薄膜厚度，反射光谱，折射率
· 电脑硬件要求：P3以上、50 MB的以上空间
· 电源：110–240V AC/50-60Hz，1.5A
· 保修：一年的整机及零备件保修
规格：
· 波长范围：250nm到1100 nm
· 光斑尺寸：500μm至5mm
· 样品尺寸：200mmx200mm或直径为200mm
· 基板尺寸：zui多可至50毫米厚
· 测量厚度范围：2nm到50μm
· 测量时间：zui快2毫秒
· 精度：优于0.5％（通过使用相同的光学常数，让椭偏仪的结果与热氧化物样品相比较）
· 重复性误差：小于1Ǻ
应用:
· 半导体制造（PR，Oxide, Nitride..)
· 液晶显示（ITO，PR，Cell gap... ..）
· 医学，生物薄膜及材料领域等
· 油墨，矿物学，颜料，调色剂等
· 医药，中间设备
· 光学涂层，TiO2, SiO2, Ta2O5... ..
· 半导体化合物
· 在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膜
· 非晶体，纳米材料和结晶硅
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