仪器种类： 进口等离子体表面处理仪
射频频率： 13.56Hz
功率： 0-300W
设备尺寸： 直径211mm*300mm
样品腔容积： 10L
样品腔材质： 进口石英
工作气体： 2
控制方式： 自动
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主要用于以下领域：
小批量生产
分析 (REM, TEM)
医疗技术
灭菌
研究和开发部门
考古
纺织技术
塑料技术
概况介绍 Atto
技术参数： Plasma Cleaner Atto 配有手动控制系统
外壳：
宽 425 mm、高 275 mm、深 450 mm
腔室：
玻璃材质、? 211 mm、长 300 mm
腔室容积：
约 10.5 升
气源：
2 个由针型阀控制的气体通道
发生器：
40 kHz/200 W 或者 13.56 MHz/50 W 固定搭配
真空泵：
抽吸性能： 2 m3/h
部件支架：
1 个产品支架
控制系统：
手动型、通过模拟计时器测定工艺时间
外壳：
宽 525 mm、高 275 mm、深 450 mm
腔室：
玻璃材质、? 211 mm、长 300 mm
腔室容积：
约 10.5 升
气源：
2 个由 MFCs 控制的气体通道
发生器：
40 kHz / 200 W 或者 13.56 MHz / 50 W 固定搭配
真空泵：
抽吸性能： 2 m3/h
部件支架：
1 个产品支架
控制系统：
PC-控制系统 (Microsoft Windows XP)
外壳：
宽 525 mm、高 275 mm、深 450 mm
腔室：
玻璃材质、? 211 mm、长 300 mm
腔室容积：
约 10.5 升
气源：
2 个由 MFCs 控制的气体通道
发生器：
40 kHz/200 W 或者 13.56 MHz/50 W 固定搭配
真空泵：
抽吸性能： 2 m3/h
部件支架：
1 个产品支架
控制系统：
PC-控制系统 (Microsoft Windows XP)
外壳：
宽 525 mm、高 275 mm、深 450 mm
腔室：
玻璃材质、? 211 mm、长 300 mm
腔室容积：
约 10.5 升
气源：
2 个由 MFCs 控制的气体通道
发生器：
40 kHz / 200 W 或者 13.56 MHz / 50 W 固定搭配
真空泵：
抽吸性能： 2 m3/h
部件支架：
1 个产品支架
控制系统：
PC-控制系统 (Microsoft Windows CE)
Allied MultiPrep 研磨抛光机
型号：15-2000-230 30万
MetPrep 3™ / PH-3™研磨抛光机
型号：5-2500-230 10万 - 20万
M-Prep 3™ 研磨抛光机
型号：5-2100-230 10万 - 20万
Allied M-Prep 4研磨抛光机
型号：5-6110-230 10万 - 20万主要用于除去透射电镜样品及样品杆上的污染，防止碳沉积以降低图像分辨率及对样品微区分析造成误判。还可以利用该仪器清洗各类光阑等电子显微镜配件。特别适用于场发射扫描电镜和场发射透射电镜。用这种低能高频等离子体清洗样品表面，不会改变样品元素成份和表面结构特征。
文档为等离子简介和等离子仪器相关参数。 什么是等离子体？ 如果连续为物质提供能量，其温度会相应升高，物质状态会从固态变为液态，然后过渡为气态。如果继续提供能量，当前原子壳层会发生分裂，并产生带电粒子（带负电荷的电子和带正电荷 的离子）。这种混合物被称作等离子体或者 “物质的第四态”。 简而言之： 在提供能量的情况下发生了物质状态的变化： 固态 ? 液态 ? 气态 ? 等离子态 在自然界中存在着等离子体，例如在闪电、极光、火焰和太阳中。此外，氖管、焊接的时候，以及闪光灯均会产生人造等离子体。
