分子束外延系统及蒸发源
| 仪器简介：Dr.EberlMBE-KomponentenGmbH是德国一家专业的分子束外延设备制造厂商，创立于1989年。公司创立人PhD.KarlEberl早年作为高级研究员工作于位 |
北京汇德信科技有限公司[参展商]
http://www.instrument.com.cn/netshow/C14141.htm
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分子束外延 (MBE)
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-专业的分子束外延设备制造商
-广泛应用于研究和MBE系统生产中（是VGSemicon,Omicron的供货商),在全球有许多著名MBE实验室使用其产品和部件
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北京汇德信科技有限公司[参展商]
http://www.instrument.com.cn/netshow/C14546.htm
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射频离子/原子源（可转换）
| 仪器简介：
射频离子源：用于离子束沉积，离子束辅助沉积，MEMS
射频原子源：用于合成氧化物，氮化物，氢原子清洗
技术参数：
射频离子源
安装法兰口径：NW63CF，NW100CF
真 |
科睿技术发展有限公司[参展商]
http://www.instrument.com.cn/netshow/C20048.htm
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溅射离子源(用于样品表面清洗)
| 仪器简介：
典型应用是氩离子溅射清洗表面
溅射清洗/表面准备，用于表面科学，MBE，高真空溅射过程
离子辅助沉积
离子束溅射镀膜
反应离子刻蚀
IG22kVBackfillIonSo |
科睿技术发展有限公司[参展商]
http://www.instrument.com.cn/netshow/C20021.htm
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真空腔体水气解吸附组件
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仪器简介：
TheZCUVErepresentsthemostrecentadvanceinwatervapordesorptiontechnology.Theuniquedesigniss |
科睿技术发展有限公司[参展商]
http://www.instrument.com.cn/netshow/C16560.htm
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溅射离子枪，等离子体发生源
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溅射离子枪主要用途:
溅射清洗/表面科学中样品表面处理,MBEandHV溅射过程
离子辅助沉积
离子束溅射镀膜
反应离子刻蚀
技术指标 |
科睿技术发展有限公司[参展商]
http://www.instrument.com.cn/netshow/C20020.htm
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磁控溅射源/靶枪（1英寸/2英寸/3英寸）
| 技术参数：
我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1",2"and3".以及矩形靶枪
安装法兰口径：NW63CF，NW100CF
真空腔体内长度范围：150-400m |
科睿技术发展有限公司[参展商]
http://www.instrument.com.cn/netshow/C16557.htm
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四袋电子束蒸发器
| 仪器简介：
Thee-fluxMiniE-BeamEvaporatorisanUHVevaporatorforsmallandmediumquantitiesofalmostanymateriali |
科睿技术发展有限公司[参展商]
http://www.instrument.com.cn/netshow/C16556.htm
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分子束外延系统（可接脉冲激光沉积模块）
| 优异的性能价格比，Mantis公司生产的分子束外延系统（配置脉冲激光沉积模块）落户广州的华南理工大学，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。
主腔 |
科睿技术发展有限公司[参展商]
http://www.instrument.com.cn/netshow/C143687.htm
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加拿大Johnsen UltraVac公司超高真空系列产品
| 仪器简介：加拿大JohnsenUltravacInc.（JUV）公司成立于1961，以其优异的性能与表现在全球范围内赢得了良好的声誉，被誉为超高真空领域设备制造商中的“奥德赛” |
QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司[参展商]
http://www.instrument.com.cn/netshow/C71736.htm
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